| 摘要 |
본 발명에서, 다수의 스테이지의 폴리싱 동작에서 웨이퍼 표면상의 잔여물의 건조를 방지하는 방법은 웨이퍼 처리 효율을 증가시켜, CMP 동작에서 이용되는 폴리싱 패드의 유효 수명을 연장시킨다. 이러한 방법은 웨이퍼에 대한 제 1 폴리싱 단계에 뒤이은 제 2 폴리싱 단계에서 폴리싱된 웨이퍼에 대한 폴리싱 종단점을 검출하는 단계를 포함한다. 종단점 검출은 제 1 폴리싱 동작에서 다른 웨이퍼의 폴리싱을 종료시키며, 제 2 폴리싱 동작에서 앞선 웨이퍼의 오버폴리싱을 트리거한다. 설정된 주기(a set period)후에, 제 2 폴리싱 동작내의 이전의 웨이퍼의 오버폴리싱이 종료된다. 마지막으로 각각의 웨이퍼가 후속의 처리 동작으로 이동하는데, 이는 폴리싱 동작 또는 버핑 동작을 포함할 수 있다. 본 발명의 장점 중 하나는 총 처리 시간이 동일한 폴리싱 패드에 대하여 증가되어 플래튼 패드 교환 사이의 총 플래튼 패드 사용 시간의 최대화가 가능하고, 이로 인하여 플래튼 패드 교환 사이에 보다 많은 수의 웨이퍼의 폴리싱을 가능하게 한다는 것이다. |
