发明名称 Elektrodenformungsverfahren und dafür benutzte Basis zur Formung von Bump-Elektroden
摘要 <p>Eine Halbleitereinrichtung (2) wird auf einer beheizbaren Halterung (6) montiert, und die Temperatur der Halbleitereinrichtung (2) wird auf mindestens 60 DEG C und niedriger als der Schmelzpunkt des Lots gesetzt. Unter Nutzung eines Ausstoßkopfes (4) wird das geschmolzene Lot (3a) von einer Düse auf eine Elektrodenteil (1) ausgestoßen. Das geschmolzene Lot (3a), das vom Ausstoßkopf (4) ausgestoßen wurde, trifft auf die Oberfläche des Elektrodenteils (1) auf. Beim Auftreffen verteilt sich das geschmolzene Lot (3a) über die Oberfläche des Elektrodenteils (1) durch Benetzung, wobei es eine Bump-Elektrode (3) auf dem Elektrodenteil (1) bildet. Dies sichert eine Festigkeit der Verbindung zwischen der Bump-Elektrode und dem darunter liegenden leitfähigen Bereich.</p>
申请公布号 DE10122942(A1) 申请公布日期 2002.05.29
申请号 DE2001122942 申请日期 2001.05.11
申请人 MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO 发明人 NOGUCHI, YOSHIE
分类号 H01L21/48;H01L21/60;H05K3/34;H05K3/40;(IPC1-7):H01L21/60;H01L23/50 主分类号 H01L21/48
代理机构 代理人
主权项
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