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发明名称 Chemical vapor deposition apparatus and chemical vapor deposition method
摘要
申请公布号 EP1193331(A3) 申请公布日期 2002.05.29
申请号 EP20010122721 申请日期 2001.09.21
申请人 JAPAN PIONICS CO., LTD.;NPS CO., LTD. 发明人 SAKAI, SHIRO;TAKAMATSU, YUKICHI;MORI, YUJI;NAOI, HIROYUKI;WANG, HONG XING;ISHIHARA, YOSHIYASU;AMIJIMA, YUTAKA
分类号 C23C16/34;C23C16/44;C23C16/455;C30B25/02;C30B25/14;H01L21/205;H01L33/32;H01S5/323;(IPC1-7):C30B25/14;C30B29/40 主分类号 C23C16/34
代理机构 代理人
主权项
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