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<p>Bei dem Verfahren zur Herstellung einer Rasternäpfchen (5) als Druckinformationen tragenden, vorzugsweise einen rotationssymmetrischen Grundkörper (1) aufweisenden, Tiefdruckform mittels zeitlich modulierter, insbesondere gepulster Laserstrahlung (9) wird auf dem Grundkörper (1) über dessen, für eine Informationseinprägung vorgesehenen Oberschichtbereichen (8) eine Abtragungsunterstützungsschicht (13) aufgebracht, durch die hindurch Rasternäpfchen (5) mit der Laserstrahlung (9) in die Oberschichtbereiche (8) durch Materialablation eingebracht werden. Anschliessend wird diese Abtragungsunterstützungsschicht (13) erntfernt, worauf gratfreie Rasternäpfchen (5) erhalten werden.</p> |
