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发明名称
Charged particle beam exposure device with aberration correction
摘要
申请公布号
GB2369241(A)
申请公布日期
2002.05.22
申请号
GB20020002656
申请日期
2000.06.02
申请人
* ADVANTEST CORPORATION
发明人
KENICHI * KAWAKAMI
分类号
H01J37/153;H01J37/317;(IPC1-7):H01J37/30
主分类号
H01J37/153
代理机构
代理人
主权项
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