| 发明名称 | 噻唑烷衍生物的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及式(I)噻唑烷化合物的制备,其中D环为(i):其中R为氢;C1－4烷基,卤素或氰基;或为(ii)且A为C2－6亚烷基。根据本方法,式(I)化合物以较以往方法更高的得率获得。 | ||
| 申请公布号 | CN1350526A | 申请公布日期 | 2002.05.22 |
| 申请号 | CN00807522.0 | 申请日期 | 2000.03.16 |
| 申请人 | 小野药品工业株式会社 | 发明人 | 奥本五夫;中村信之 |
| 分类号 | C07D277/34 | 主分类号 | C07D277/34 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 姜建成 |
| 主权项 | 1.一种制备(I)化合物的方法<img file="A0080752200021.GIF" wi="642" he="230" />(其中D环为<img file="A0080752200022.GIF" wi="295" he="117" />(其中R为氢、Cl-4烷基、卤素或氰基)或<img file="A0080752200023.GIF" wi="352" he="115" />且A为C2-6亚烷基)，其特征在于，使式(II)化合物<img file="A0080752200024.GIF" wi="456" he="134" />(其中X为卤素且其它符号如上定义)与式(V)化合物<img file="A0080752200025.GIF" wi="363" he="139" />在液氨中的碱金属的存在下反应。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||