| 主权项 |
1.一种粒子状材料处理装置,其系将被连动连接于旋转轴之旋转体装于形成于粒子状材料处理室之外壳内,将保持一定间隔相对分离之多数加压体支撑于该旋转体端缘侧,由前述旋转体之转动带动旋转前述加压体加压外壳内侧面以处理粒子状材料之构造,其特征为于前述加压体回旋附带形成之圆筒状区,形成未延设前述旋转轴等之空间区,使其能在该圆筒状区内生成前述粒子状材料之回旋流动中心。2.如申请专利范围第1项之粒子状材料处理装置,其中将前述外壳连动连接于旋转轴使其能转动构成,并分别个别旋转控制前述外壳之转动与旋转体之转动以构成。3.一种粒子状材料处理装置,其系将形成于粒子状材料处理室之外壳与被设于该外壳内之旋转体,分别连动连接于旋转轴使其能转动构成,并将保持一定间隔相对分离之多数加压体支撑于该旋转体端缘侧,由前述旋转体之转动带动旋转前述加压体加压外壳内侧面以处理粒子状材料之构造,其特征为以不同旋转速度向同方向旋转控制前述外壳之转动与旋转体之转动以构成。4.如申请专利范围第3项之粒子状材料处理装置,其中前述旋转控制系将前述旋转体之转动设定为比前述外壳之转动为高速。5.如申请专利范围第3项之粒子状材料处理装置,其中随前述加压体之回旋形成圆筒状区以构成。6.一种粒子状材料处理装置,其系将形成于粒子状材料处理室之外壳与被设于该外壳内之旋转体,分别连动连接于旋转轴使其能转动构成,并将保持一定间隔相对分离之多数加压体支撑于该旋转体端缘侧,由前述旋转体之转动带动旋转前述加压体加压外壳内侧面以处理粒子状材料之构造,其特征为使该装置之旋转轴心横向以单挑状将前述加压体支撑于前述旋转体,随前述加压体之回旋形成横向圆筒状区以构成。7.如申请专利范围第2项之粒子状材料处理装置,其中以不同旋转速度向同方向或反方向旋转控制前述外壳之转动与旋转体之转动以构成。8.如申请专利范围第7项之粒子状材料处理装置,其中前述同方向旋转控制系将前述旋转体之转动设定为比前述外壳之转动为高速以构成,而前述反方向旋转控制系将前述外壳之转动设定为比前述旋转体之转动为高速以构成。9.如申请专利范围第2至8项中任一项之粒子状材料处理装置,其中前述旋转控制系将前述外壳之转动与旋转体之转动以一定对应比率构成可同步旋转。10.如申请专利范围第2至8项中任一项之粒子状材料处理装置,其中前述旋转控制系预先设定多数前述外壳与前述旋转体之旋转对应比率,具有记忆该设定値之记忆机构,构成可对应处理之粒子状材料选择前述设定値之构造。11.如申请专利范围第2至8项中任一项之粒子状材料处理装置,其中于前述圆筒状区,形成未延设前述旋转轴等之空间区,使其能在该圆筒状区内生成前述粒子状材料之回旋流动中心。12.如申请专利范围第1或2项之粒子状材料处理装置,其中构成使其能由供给路与前述旋转体对面之外壳侧设置之排泄路,连续供给排泄前述粒子状材料,且对前述空间区供给粒子状材料。13.如申请专利范围第12项之粒子状材料处理装置,其中将前述供给路与排泄路配置于前述加压体之回旋轴心上。14.如申请专利范围第13项之粒子状材料处理装置,其中将前述粒子状材料之供给排泄,以构成可开闭之前述旋转体对面外壳部,由该开闭体之开闭操作将粒子状材料供给前述空间区,并由设于该开闭体之排泄口排泄粒子状材料。15.如申请专利范围第1至8项中任一项之粒子状材料处理装置,其中设置多数前述加压体包括:支轴,被支撑于前述旋传体;与环体,加压于前述外壳内壁面被装配于该支轴;并将前述环体构成一加压体之环体与另一加压体之环体分别以相位状态分散加压于外壳内壁面配设而成。16.如申请专利范围第15项之粒子状材料处理装置,其中前述环体之分散加压构造,系以一加压体之环体加压之面域与另一加压体之环体加压之面域之复合加压关系,形成对外壳内壁面连续之加压面域。17.如申请专利范围第1至8项中任一项之粒子状材料处理装置,其中构成以前述旋转体例为下侧并以该旋转体对应之外壳壁面侧为上侧,竖置前述处理装置之构造。图式简单说明:第1图系粒子状材料处理装置之整体断面图。第2图系拆卸粒子状材料处理装置前盖状态侧面图。第3图系加压体之粉碎环配设状态说明图。 |
