发明名称 可复写相变型光资讯记录组成物及可复写相变型光碟
摘要 本发明披露一种可覆写相变型光碟材料,系由Te.(Ge,Bi,Sb)-X(X=硼或碳)五元合金所组成,其中成份范围碲(Te)为47~60原子百分率(at.%),锗为(Ge)12~48at.%,铋加锑(Si+Sb)为5~41at.%,以Te,Ge,Bi及Sb的总原子数为基准;及硼或碳0.05~4at.%,以Te,Ge,Bi,Sb及X的总原子数为基准。在本发明的可覆写相变型光碟材料范围内,其中有一组成范围之结晶与非晶态反射率对比值在可见光全波长范围内皆大于30%;结晶温度为187~198℃,结晶活化能为1.83~2.72eV。另一组成范围之结晶与非晶态反射率对比值在可见光全波长范围内皆大于20%,结晶温度为158~l60℃,结晶活化能为2.89eV。本发明亦提供一种可重复写之相变型光碟。
申请公布号 TW487682 申请公布日期 2002.05.21
申请号 TW089116137 申请日期 2000.08.10
申请人 行政院国家科学委员会 台北巿和平东路二段一○六号十八楼 发明人 金重勋;李乾铭
分类号 C01G17/00;C01G29/00 主分类号 C01G17/00
代理机构 代理人 陈展俊 台北巿和平东路二段二○三号四楼;林圣富 台北巿和平东路二段二○三号四楼
主权项 1.一种可复写相变型光资讯记录组成物,其具有[ TexGey(Bi1-Sb)z]100-aXa的组成,其中X为硼或碳,x=47- 60原子百分率(at.%),y=12-48at.%,z=5-41at.%,=0.1- 0.9,及a=0.05-4at.%,其中x+y+z=100at.%。2.如申请专利范 围第1项所述之组成物,其中y=28-48at.%,z=5-25at.%,=0. 1-0.6,及a=0.5-3at.%。3.如申请专利范围第2项所述之 组成物,其中该组成物在可见光波长范围内,具有 一结晶与非结晶态反射率对比値大于30%。4.如申 请专利范围第2项所述之组成物,其中该组成物具 有一结晶化温度介于180-210℃范围。5.如申请专利 范围第2项所述之组成物,其中该组成物在300℃以 下仅具有一面心立方晶相。6.如申请专利范围第2 项所述之组成物,其中该组成物具有一结晶活化能 介于1.5-3.0eV范围。7.如申请专利范围第1项所述之 组成物,其中y=12-28at.%,z=12-41at.%,=0.6-0.9,及a= 0.5-3at.%。8.如申请专利范围第7项所述之组成物,其 中该组成物在可见光波长范围内,具有一结晶与非 结晶态反射率对比値大于20%。9.如申请专利范围 第7项所述之组成物,其具有一结晶化温度在介于 140-180℃范围。10.如申请专利范围第7项所述之组 成物,其中该组成物在250℃以下仅具有一面心立方 晶相。11.如申请专利范围第9项所述之组成物,其 在该结晶化温度具有一结晶活化能介于1.5-3.0eV范 围。12.如申请专利范围第2项所述之组成物,其中 该组成物具有(Te50.6Ge37.4 Bi5.7Sb6.3)B0.89,(Te50.6Ge37.4Bi5.7Sb6.3)B1.54,(Te50.6Ge37.4Bi5. 7Sb6.3)B1.86或(Te50.6Ge37.4Bi5.7Sb6.3)C0.99的组成。13.如 申请专利范围第7项所述之组成物,其中该组成物 具有(Te54.5Ge22.0 Bi6.5Sb17.0)B0.74,(Te54.5Ge22.0Bi6.5Sb17.0)B1.27,(Te54.5Ge22.0Bi 6.5Sb17.0)B1.85或(Te54.5Ge22.0Bi6.5Sb17.0)C1.07的组成。14. 一种可复写相变型光碟,包含:一基底,以及沈积于 该基底上之一可复写相变塑化光资讯记录层,其中 该可复写相变型化光资讯记录层为申请专利范围 第1项至第7项中任一项所述之组成物。图式简单 说明: 图一为可擦拭相变型光碟的结构示意图。 图二为一组成图显示一较大范围的本发明的可复 写相变型光资讯记录组成物Te-(Ge,Bi,Sb)-X(X=0.05-5at.% B或C)。 图三(a)及(b)分别为对照组Te( Ge0.8Sb0.2)组成物的初镀非晶膜,与热退火结晶膜的X 光绕射图谱。 图四显示对照组Te(Ge0.8Sb0.2)薄膜在可见光范围内 的非晶态反射率(RA)与结晶态反射率(RC)。 图五(a)及(b)分别为本发明实施例一Te(Ge0.8Bi0.1Sb0.1) Ba(a=0,0.89,1.54,及1.86at.%)初镀非晶膜的X光绕射图形, 与经250℃、10分钟热退火过的结晶膜的X光绕射图 谱。 图六显示本发明实施例一Te( Ge0.8Bi0.1Sb0.1)Ba(a=0,0.89,1.54,及1.86at.%)薄膜在可见光 范围内的非晶态反射率(RA)与结晶态反射率(RC)。 图七显示对照组与本发明实施例一的薄膜的反射 率对比。 图八显示对照组与本发明实施例一薄膜的DSC热分 析曲线(升温速率 10℃/min)。 图九为对照组与实施例一薄膜的Kissinger图,其中Tp 及分别代表于DSC分析中的结晶化温度及昇温速 率。 图十(a),(b)及(c)分别为本发明实施例二Te(Ge0.5Bi0.125 Sb0.375)0.8Ba(a=0,0.74,1.27,及1.85at.%)初镀非晶薄膜的X 光绕射图谱(a);与经180℃、10分钟热退火过的结晶 膜的X光绕射图谱(b);及经300℃、10分钟热退火过的 结晶膜的X光绕射图谱。 图十一显示本发明实施例二Te(Ge0.5Bi0.125Sb0.375)0.8Ba (a=0,0.74, 1.27,及1.85at.%)薄膜在可见光范围内的非晶态反射 率(RA),与结晶态反射率(RC)。 图十二显示本发明实施例二的薄膜的反射率对比 图。 图十三显示本发明实施例二薄膜的DSC热分析曲线( 升温速率10℃/min)。 图十四(a)及(b)分别为实施例二薄膜从非晶态转变 成fcc及从fcc转变成hcp的Kissinger图,其中Tp及分别 代表于DSC分析中的结晶化温度及昇温速率。 图十五显示以本发明实施例一Te(Ge0.8Bi0.1Sb0.1)Ba(a=0 及0.89at.%)薄膜作为光资讯记录层之相变型光碟的 动态擦写测试结果。 图十六显示以本发明实施例二Te(Ge0.5Bi0.125Sb0.375)0. 8Ba(a=0及0.74at.%)薄膜作为光资讯记录层之相变型光 碟的动态擦写测试结果。 图十七为为一组成图显示一较佳范围的本发明的 可复写相变型光资讯记录组成物Te-(Ge,Bi,Sb)-X(X=0.05 -3at.%B或C)。
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