| 主权项 |
1.一种气相沉积薄膜,包括一基底、一底层与一气 相沉积层,其系在该基底的至少一侧藉由连续层合 法所形成,其中该基底之成分为一塑胶材料,该底 层之一组成为化学通式R'Si(OR)3(R'是取代或非取代 的烷基、乙烯基等,而R是烷基等)之一三官能有机 矽甲烷、一丙烯多元醇与一异氰酸盐化合物,且该 气相沉积层为厚度5至300nm之一无机氧化物。2.如 申请专利范围第1项的气相沉积薄膜,其中在该三 官能有机矽甲烷结构的R'是一烷基,其包括一环氧 基族。3.如申请专利范围第1项或第2项的气相沉积 薄膜,其中在该组成添加一反应催化剂。4.如申请 专利范围第3项的气相沉积薄膜,其中该反应催化 剂是一锡化合物。5.如申请专利范围第4项的气相 沉积薄膜,其中该锡化合物是选自于由氯化锡、氯 氧化锡、以及锡醇盐之组成之组群中。6.如申请 专利范围第1项的气相沉积薄膜,其中在该三官能 有机矽甲烷结构的R'是一烷基,其包括一异氰酸酯 基。7.如申请专利范围第1项、第2项或第6项的气 相沉积薄膜,其中在该组成更进一步添加一金属醇 盐是,其由化学式M(OR)n(其中M是金属元素、R是烷基 如CH3,C2H5等、而n是金属元素的氧化数)所表示或该 金属醇盐的水解产物。8.如申请专利范围第7项的 气相沉积薄膜,其中该金属醇盐的金属是选自于由 矽、铝、钛、锆以及其混合物等组成之组群中。9 .一种气相沉积薄膜,包括一基底、一底层与一气 相沉积层,其系在该基底的至少一侧藉由连续层合 法所形成,其中该基底之成分为一塑胶材料,该底 层之一组成为化学通式R'Si(OR)3(R'是取代或非取代 的烷基、乙烯基等,而R是烷基等)之一三官能有机 矽甲烷的一水解产物、一丙烯多元醇与一异氰酸 盐化合物,且该气相沉积层为厚度5至300nm之一无机 氧化物。10.如申请专利范围第9项的气相沉积薄膜 ,其中在该三官能有机矽甲烷结构的R'是一烷基,其 包括一环氧基。11.如申请专利范围第9项或第10项 的气相沉积薄膜,其中在该组成中添加一反应催化 剂。12.如申请专利范围第11项的气相沉积薄膜,其 中该反应催化剂是一锡化合物。13.如申请专利范 围第12项的气相沉积薄膜,其中该锡化合物是选自 于由氯化锡、氯氧化锡、以及锡醇盐组成之组群 中。14.如申请专利范围第9项或第10项的气相沉积 薄膜,其中在该组成更进一步添加一金属醇盐是由 化学式M(OR)n(其中M是金属元素、R是烷基如CH3,C2H5 等、而n是金属元素的氧化数)所表示或该金属醇 盐的水解产物。15.如申请专利范围第9项的气相沉 积薄膜,其中该金属醇盐的金属是选自于由矽、铝 、钛、锆以及其等混合物组成之组群中。16.如申 请专利范围第1项、第2项、第6项、第9项或第10项 的气相沉积薄膜,其中该底层的厚度范围在0.01-2 m。17.如申请专利范围第1项、第2项、第6项、第9 项或第10项的气相沉积薄膜,其中该无机氧化物是 选自于由氧化铝、氧化矽、氧化镁、以及其等混 合物组成的组群中。18.如申请专利范围第1项、第 2项、第6项、第9项或第10项的气相沉积薄膜,其中 在该气相沉积薄膜额外层合一覆盖层,该覆盖层是 藉由涂抹、加热、以及烘乾主要由一含水溶液或 一含水/酒精混合溶液所组成的一覆盖剂所获得, 该溶液包含水可溶聚合物以及(a)至少一金属醇盐 或其水解产物与(b)氯化锡的单一或两者。19.如申 请专利范围第18项的气相沉积薄膜,其中该金属醇 盐是选自于由四乙氧基矽甲烷、三异丙氧基铝以 及其等之混合物组成的组群中。20.如申请专利范 围第18项的气相沉积薄膜,其中该水可溶聚合物系 聚乙烯醇。21.一种根据申请专利范围第1项、第6 项、第9项或第10项所述之气相沉积薄膜所构成之 包装材料,该包装材料包括申请专利范围第1项、 第6项、第9项以及第10项中任何一项之气相沉积薄 膜与一热密封层,该热密封层系层合在该气相沉积 薄膜之侧边。22.一种根据申请专利范围第18项所 述之气相沉积薄膜所构成之包装材料,其包括申请 专利范围第18项所述之气相沉积薄膜与一热密封 层,该热密封层系层合在该气相沉积薄膜之侧边。 图式简单说明: 第1图是根据本发明实施例绘示气相沉积薄膜的部 分剖面视图; 第2图是根据本发明另一实施例绘示气相沉积薄膜 的部分剖面视图; 第3图是根据本发明再另一实施例绘示利用气相沉 积薄膜制备包装材料的部分剖面视图;以及 第4图是利用绘示于第3图的包装材料所产生的包 装实施例透视图。 |
