发明名称 相位光栅式影像感测器及其制造方法
摘要 一种相位光栅式影像感测器及其制造方法,此影像感测器包括数个二极体、一平坦层、一彩色滤光层与数个相位光栅,其中,二极体系位于一基底上,且系以隔离结构予以隔离;平坦层系覆盖于二极体与隔离结构的表面上;彩色滤光层系位于平坦层之中,且与平坦层呈一三明治结构;数个相位光栅则是配置平坦层的表面上,其位置对应于隔离结构上,系用以使通过平坦层之光线产生建设性干涉。
申请公布号 TW488071 申请公布日期 2002.05.21
申请号 TW090111026 申请日期 2001.05.09
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 黄进文;徐健斌;李庆民
分类号 H01L27/14 主分类号 H01L27/14
代理机构 代理人 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种相位光栅式影像感测器,包括:复数个二极体位于一基底上;一隔离结构,其位于该些二极体之间,用以隔离该些二极体;一平坦层,其覆盖于该些二极体与该隔离结构的表面上;一彩色滤光层,其位于该平坦层之中,且与该平坦层呈一三明治结构;以及复数个相位光栅,配置在对应于该些隔离结构之该平坦层的表面上,该些相位光栅系用以使通过该平坦层之光线产生建设性干涉。2.如申请专利范围第1项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该些相位光栅系配置在对应于该些隔离结构之该平坦层的表面上,且系环绕于该些二极体之周缘。3.如申请专利范围第2项所述之相位光栅式影像感测器,其中,各个相位光栅系由复数个环绕该些二极体其周缘之同心环所组成。4.如申请专利范围第3项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该些相位光栅之材质包括金属。5.如申请专利范围第4项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该些相位光栅之材质包括铬。6.如申请专利范围第1项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该些相位光栅之材质包括金属。7.如申请专利范围第6项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该些相位光栅之材质包括铬。8.如申请专利范围第1项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该平坦层之材质包括氧化矽与磷矽玻璃其中之一。9.如申请专利范围第1项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该平坦层包括:一第一平坦层,其覆盖该些二极体与该隔离结构的表面,且与该彩色滤光层之一表面相连;以及一第二平坦层,其覆盖该彩色滤光层之另一表面。10.一种相位光栅式影像感测器,包括:复数个二极体位于一基底上;一隔离结构,其位于该些二极体之间,用以隔离该些二极体;一平坦层,其覆盖于该些二极体与该隔离结构的表面上;一彩色滤光层,其覆盖于该平坦层之表面上;以及复数个相位光栅,其配置在对应于该些隔离结构之该平坦层之中,该些相位光栅系用以使通过该彩色滤光层之光线产生建设性干涉。11.如申请专利范围第10项所述之相位光栅式影像感测器,其中、该些相位光栅系配置在对应于该些隔离结构之该平坦层之中,且系环绕于该些二极体之周缘。12.如申请专利范围第11项所述之相位光栅式影像感测器,其中,各个相位光栅系由复数个环绕该些二极体其周缘之同心环所组成。13.如申请专利范围第12项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该些相位光栅之材质包括金属。14.如申请专利范围第13项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该些相位光栅之材质包括铬。15.如申请专利范围第10项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该些相位光栅之材质包括金属。16.如申请专利范围第15项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该些相位光栅之材质包括铬。17.如申请专利范围第10项所述之相位光栅式影像感测器,其中,该平坦层之材质包括氧化矽与磷矽玻璃其中之一。18.一种相位光栅式影像感测器之制造方法,该方法包括;于一基底中形成复数个二极体;在该些二极体之间形成一隔离结构,用以隔离该些二极体;在该些二极体与该隔离结构的表面上形成一第一平坦层;在该第一平坦层上形成一彩色滤光层;在该彩色滤光层上形成一第二平坦层;在该第二平坦层上形成一相位光栅材料层;以及图案化该相位光栅材料层,以形成复数个相位光栅,其中该些相位光栅系用以使通过该彩色滤光层之光线产生建设性干涉。19.如申请专利范围第18项所述之相位光栅式影像感测器之制造方法,其中,图案化该光栅材料层的方法系采用微影、蚀刻法,且其所形成之该些相位光栅系对应于该些隔离结构之上,且系环绕于该些二极体之周缘。20.如申请专利范围第19项所述之相位光栅式影像感测器之制造方法,其中,该光栅材料层系图案化成复数个环绕该些二极体其周缘之同心环以形成该些相位光栅。21.如申请专利范围第18项所述之相位光栅式影像感测器之制造方法,其中,该相位光栅材料层之材质包括金属。22.如申请专利范围第21项所述之相位光栅式影像感测器之制造方法,其中,该相位光栅材料层之材质包括铬。23.一种相位光栅式影像感测器之制造方法,包括下列步骤;于一基底中形成复数个二极体;在该些二极体之间形成一隔离结构,用以隔离该些二极体;在该些二极体与该隔离结构的表面上形成一第一平坦层;在该第一平坦层上形成一相位光栅材料层;图案化该相位光栅材料层,以形成复数个相位光栅;在该第一平坦层上形成一第二平坦层,并覆盖该些相位光栅;以及在该第二平坦层上形成一彩色滤光层,该些相位光栅可以使通过该彩色滤光层之光线产生建设性干涉。24.如申请专利范围第23项所述之相位光栅式影像感测器之制造方法,其中,图案化该相位光栅材料层的方法系采用微影、蚀刻法,且其所形成之该些相位光栅系对应于该些隔离结构之上,且系环绕于该些二极体之周缘。25.如申请专利范围第24项所述之相位光栅式影像感测器之制造方法,其中,该光栅材料层系图案化成复数个环绕该些二极体其周缘之同心环以形成该些相位光栅。26.如申请专利范围第23项所述之相位光栅式影像感测器之制造方法,其中,该相位光栅材料层之材质包括金属。27.如申请专利范围第26项所述之相位光栅式影像感测器之制造方法,其中,该相位光栅材料层之材质包括铬。图式简单说明:第1图为习知一种影像感测器结构图。第2A图至第2C图是依照本发明一较佳实施例之相位光栅式影像感测器之制造流程剖面图。第3图是依照本发明一较佳实施例之相位光栅式影像感测器之相位光栅上视图。第4A图至第4C图是依照本发明另一较佳实施例之相位光栅式影像感测器之制造流程剖面图。
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