产生自动去污染表面的方法

摘要

一种产生自动去污染表面的方法，以去除沉积于表面上的化学的或生物的污染，是经由污染物质与自由的氢氧基反应以去除污染物质。这方法首先包括决定需要处理的受污染的表面，并且此表面能曝露于紫外光下。其次，于所选择的表面上，被覆一层过渡金属氧化物的毫微米粒子层，譬如锐钛矿二氧化钛。而被覆的过程是经由原料储存槽喷射加热的毫微米粒子或核团到表面，以形成毫微米粒子层，而毫微米之粒子是在至少约摄氏750度温度下，从喷射装置出口射出，毫微米粒子的大小约5至100毫微米。最后，将处理过后的表面曝露于由自然环境或人为方式形成的紫外光与水气中，经由催化反应形成自由氢氧基，再与污染物质反应，通常能使污染物质转成为无害的物质。

主权项

1.一种产生自动去污染表面的方法,以去除化学或生物的污染物质,是经由污染物质与自由的氢氧基反应后,沉积于该表面上,以便去除污染,此方法包括:决定可曝露于紫外光之一表面;喷射加热的一过渡金属氧化物毫微米粒子,从一原料槽喷射至该表面以形成一毫微米粒子层,该毫微米粒子的温度至少约摄氏750度,粒子尺寸约5毫微米至100毫微米;以及曝露该表面于水气与紫外光中,于该表面上释出自由的氢氧基并与该污染物质反应,以去除污染。2.如申请专利范围第1项所述之一种产生自动去污染表面的方法,其中该加热的毫微米粒子是通常熔融的与激冷的,并且该毫微米粒子固化于该表面上,以提供一毫微米粒子层于该表面上。3.如申请专利范围第1项所述之一种产生自动去污染表面的方法,其中该加热的毫微米粒子是以复数个毫微米粒子核团喷射至该表面,并以足够散开的速度轰击该表面,以提供一毫微米粒子层于该表面上。4.如申请专利范围第1项所述之一种产生自动去污染表面的方法,其中该水气是由周遭环境的湿气所提供,而该紫外光是由日光所提供。5.一种产生自动去污染表面的方法,以去除化学和生物的污染物质,是经由污染物质与自由的氢氧基反应后,沉积于该表面上,以便去除污染,包括;决定可曝露于紫外光之一表面;喷射加热的锐钛矿二氧化钛毫微米粒子,从原料槽喷射至该表面上,以形成毫微米粒子层,该毫微米粒子的温度至少约摄氏750度,而粒子大小约5毫微米至100毫微米;以及曝露该表面于水气与紫外光中,于该表面上释出自由氢氧基并与该污染物质反应,以去除污染。6.如申请专利范围第5项所述之一种产生自动去污染表面的方法,其中该加热的毫微米粒子是通常熔融的与激冷的,并且该毫微米粒子固化于该表面上,以提供一毫微米粒子层于该表面上。7.如申请专利范围第5项所述之一种产生自动去污染表面的方法,其中该加热的毫微米粒子是以复数个毫微米粒子核团喷射至该表面,并以足够散开的速度轰击该表面,以提供一毫微米粒子层于该表面上。8.如申请专利范围第5项所述之一种产生自动去污染表面的方法,其中该水气是由周遭环境的湿气所提供,而该紫外光是由日光所提供。图式简单说明:第1图所绘示为表面的处理,以使表面能自动去污染的方块图。