| 主权项 |
1.一种正作用化学敏化型光阻组成物,彼系一溶于 有机溶剂中之均匀溶液形态,且包含: (a1)100重量份硷溶性含羟基树脂,其中至少部份的 羟基每一个系经酸可解离取代基取代,且重量平均 分子量对数均分子量之比Mw:Mn不会超过3.5;以及 (b)0.1至30重量份含氰基之磺酸酯化合物做为酸 产生剂,其系以下列通式表示 R1-C(CN)=N-O-SO2-R2, 其中R1表示单价芳族基,R2表示具有1至4个碳原子且 未取代或经卤素原子取代之烷基,其中该含羟基树 脂系羟基苯乙烯均聚物、羟基苯乙烯与苯乙烯之 共聚物,且其中该羟基苯乙烯部份之莫耳比例系至 少70%,及在该组份(a1)中之酸可解离取代基系选自 第三-烷氧基羰基、第三-烷基、烷氧基烷基及环 系缩醛基。2.如申请专利范围第1项之正作用化学 敏化型光阻组成物,其中1至60%于该含羟基树脂内 之羟基系经酸可解离基取代。3.如申请专利范围 第1项之正作用化学敏化型光阻组成物,其中表示R1 之芳族单价基系选自未取代或经卤素原子、烷基 、烷氧基或硝基取代之苯基、基、喃基、及 嗯基。4.如申请专利范围第1项之正作用化学敏 化型光阻组成物,其中在该组份(a1)中之酸可解离 取代基系选自第三-丁氧基羰基、第三-丁基、乙 氧基乙基、甲氧基丙基、四氢喃基、及四氢 喃基。5.如申请专利范围第1项之正作用化学敏化 型光阻组成物,其中在该组份(a1)内之重量平均分 子量对数均分子量之比Mw:Mn不超过2.5。6.如申请专 利范围第5项之正作用化学敏化型光阻组成物,其 中在该组份(a1)内之重量平均分子量对数均分子量 之比Mw:Mn不超过1.5。7.如申请专利范围第1项之正 作用化学敏化型光阻组成物,其中该组份(b)之量系 在每100重量份组份(a1)1至20重量份的范围内。8.一 种负作用化学敏化型光阻组成物,彼系一溶于有机 溶剂之均匀溶液形态,且包含: (a2)100重量份硷溶性树脂,其中重量平均分子量对 数均分子量之比Mw:Mn不会超过3.5; (b)0.1至30重量份含氰基之磺酸酯化合物做为酸 产生剂,其系以下列通式表示 R1-C(CN)=N-O-SO2-R2, 其中R1表示单价芳族基,R2表示具有1至4个碳原子且 未取代或经卤素原子取代之烷基;以及 (c)3至70重量份酸可交联树脂,其中该做为组份(c)之 酸可交联树脂系在分子内具有羟基、烷氧基或彼 等之组合的胺基树脂,及该做为组份(a2)之硷溶性 树脂系选自酚醛清漆树脂、羟基苯乙烯均聚物、 其中部份羟基每个皆经酸可解离基取代之羟基苯 乙烯均聚物、苯乙烯化合物与羟基苯乙烯之共聚 物、部份或完全氢化之聚羟基苯乙烯、羟基苯乙 烯与(甲基)丙烯酸或彼之衍生物的共聚物、及(甲 基)丙烯酸与彼之衍生物的共聚物。9.如申请专利 范围第8项之负作用化学敏化型光阻组成物,其中 该做为组份(c)之酸可交联树脂系选自三聚氰胺树 脂、尿素树脂、彼等之组合物,其每一个在分子内 都可具有羟基、烷氧基、或彼之组合。10.如申请 专利范围第8项之负作用化学敏化型光阻组成物, 其中表示R1之芳族单价基系选自未取代或经卤素 原子、烷基、烷氧基或硝基所取代之苯基、基 、喃基及嗯基。11.如申请专利范围第8项之负 作用化学敏化型光阻组成物,其中在该组份(a2)内 之重量平均分子量对数均分子量之比Mw:Mn不超过2. 5。12.如申请专利范围第11项之负作用化学敏化型 光阻组成物,其中在该组份(a2)内之重量平均分子 量对数均分子量之比Mw:Mn不超过1.5。13.如申请专 利范围第8项之负作用化学敏化型光阻组成物,其 中该组份(b)之量系在每100重量份组份(a2)1至20重量 份的范围内。14.如申请专利范围第8项之负作用化 学敏化型光阻组成物,其中该组份(c)之量系在每100 重量份组份(a2)10至50重量份的范围内。15.如申请 专利范围第8项之负作用化学敏化型光阻组成物, 其中该组份(b)系为重量比在1:2至2:1范围内之-( 甲磺醯氧基亚胺基)-基氰与-(甲磺醯氧基亚胺 基)-4-甲氧基基氰的组合物。 |
