| 主权项 |
1.一种铝合金制处理室用构件,主要系具有阳极氧 化皮膜之处理室用构件,其特征为,该构件的皮膜 以外部份之组成系以质量%为, Si:0.1-2.0% Mg:0.1-3.5%, Cu:0.02-4.0%, 剩余部份Al做为本质性成份含有,其他由杂质元素 而成,前述杂质元素内,为Cr:未满0.04%者。2.如申请 专利范围第1项之铝合金制处理室用构件,其中,更 且在前述杂质元素之内,以质量%为, Fe:0.1%以下, Mn:0.04%以下。3.如申请专利范围第2项之铝合金制 处理室用构件,其中,Fe,Cr,Mn以外的杂质元素之总和 ,系以质量%为0.1%以下者。4.如申请专利范围第1项 之铝合金制处理室用构件,其中,前述处理室用构 件,系被使用在处理室内电浆式电浆化而被得到的 活性种对被处理物实施所定处理之电浆处理装置 所使用者,而在将被曝露在电浆中的位置有阳极氧 化皮膜者。5.一种铝合金制处理室用构件,系将被 设在由在处理室内电浆或电浆化而得到的活性种 对被处理物施以所定处理之电浆处理装置内所设 的处理室用构件,前述处理室用构件之组成系以质 量%, Si:0.2-0.6%, Mg:0.45-0.9%, Cu:0.02-4.0%, 剩余部份Al做为本质性成份含有,其他杂质元素而 成者。6.如申请专利范围第5项之铝合金制处理室 用构件,其中,前述处理室用构件为加热区块本体 者。7.如申请专利范围第6项之铝合金制处理室用 构件,其中,在前述区块本体的表面,在将由前述电 浆处理装置被曝露在电浆中之位置有阳极氧化皮 膜。8.如申请专利范围第5项之铝合金制处理室用 构件,其中,前述处理室用构件,系在前述区块本体 的载置被处理物之位置,经由卡合装置被设成自由 装卸之载置板者。9.如申请专利范围第8项之铝合 金制处理室用构件,其中,前述载置板,系在由前述 电浆处理装置被曝露在电浆中的位置有阳极氧化 皮膜者。10.一种加热区块,主要系被设在电浆处理 装置内之加热区块,备有内设将载置被处理物的位 置加热用之加热装置的区块本体,前述区块本体之 组成系以质量%, Si:0.2-0.6%, Mg:0.45-0.9%, Cu:0.02-0.45, 剩余部份Al做为本质性成份含有,其他由不可避元 素而成之铝合金所形成者。11.如申请专利范围第 10项之加热区块,其中,在前述区块本体之表面,在 将由前述电浆处理装置被曝露在电浆中的位置有 阳极氧化皮膜者。图式简单说明: [图1]系显示本发明之加热器块的断面形状之模式 图。 |
