发明名称 COATING AND DEVELOPING PROCESSING SYSTEM
摘要 <p>본 발명은 도포 및 현상 공정 시스템에 관한 것이다. 본 발명의 도포 및 현상 공정 시스템은 기판을 지지하기 위한 척, 상기 척에 마운팅된 기판에 도포 및 현상 공정액을 분사하기 위한 적어도 하나의 공정액 분사 노즐, 상기 척에 마운팅된 기판에 세정액을 분사하기 위한 세정액 분사 노즐, 상기 적어도 하나의 공정액 분사 노즐과 상기 세정액 분사 노즐중에서 어느 하나를 선택하여 상기 기판의 상부까지 이동시키기 위한 액추에이터 그리고 상기 액추에이터를 제어하기 위한 제어부를 구비한다. 이와 같은 도포 및 현상 공정 시스템에 의하면, 서로 다른 종류의 분사 노즐을 하나의 액추에이터를 사용하여 구동하게 되므로 도포 및 현상 공정 시스템의 공간이 절약되어 효율적인 공간 활용이 가능하다. 또한, 도포 및 현상 공정 시스템의 원가 역시 절감할 수 있다.</p>
申请公布号 KR100336841(B1) 申请公布日期 2002.05.16
申请号 KR19990055231 申请日期 1999.12.06
申请人 null, null 发明人 노형래;심기환;강희영
分类号 G03F7/16;B05C5/00;B05C9/02;B05C11/00;B05D1/40;G03D5/00;G03F7/30;H01L21/027 主分类号 G03F7/16
代理机构 代理人
主权项
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