| 发明名称 | 改善光致抗蚀剂图案侧边轮廓的方法 | ||
| 摘要 | 一种改善光致抗蚀剂图案侧边轮廓的方法,在定义光致抗蚀剂的曝光显影步骤之后,在温度处于该光致抗蚀剂的玻态转换温度之下进行硬烤步骤,以使光致抗蚀剂得以回流整型,以避免顶凸角的产生,降低掩模误差因素,并提高了关键尺寸的均匀度。该硬烤步骤又可以由两个步骤取代,亦即分别实施一温度低于该光致抗蚀剂的玻态转换温度,以及温度高于该光致抗蚀剂的玻态转换温度的一回流烘烤步骤,以达到相同的目的。 | ||
| 申请公布号 | CN1349245A | 申请公布日期 | 2002.05.15 |
| 申请号 | CN00131452.1 | 申请日期 | 2000.10.17 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 黄义雄;陈桂顺;王见明 |
| 分类号 | H01L21/027;G03F7/00 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1.一种改善光致抗蚀剂图案侧边轮廓的方法，其至少包括下列步骤：形成一光致抗蚀剂层；对该光致抗蚀剂层实施一软烤步骤；对该光致抗蚀剂层实施一曝光步骤；对该光致抗蚀剂层实施一曝光后烘烤步骤；对该光致抗蚀剂层实施一显影步骤；以及对该光致抗蚀剂层实施一硬烤步骤，该硬烤的温度高于该光致抗蚀剂的玻态转换温度。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹科学工业园区 | ||