发明名称 修正曝射图案之方法及装置,曝射遮罩,曝射之方法,以及半导体装置
摘要 本发明提供一种转换曝射图案的方法,以得到一尽可能接近微影程序中标的设计图案的传送影像。该方法包含下列步骤:依据一指定的规则,将需要的设计图案P的可见的外部轮廓分割成多个端边,然后对各端边指定多个计算点H;计算由模拟所形成之曝射图案的传送影像;计算在各E之计算点及对应曝射图案之传送影像的各计算点R之位置之间的距离;且由输入该距离至特定的计算函数上而决定一修正的曝射图案,因此可依据计算函数的输出值修正各端边E的位置。
申请公布号 TW486743 申请公布日期 2002.05.11
申请号 TW086116044 申请日期 1997.10.29
申请人 新力股份有限公司 发明人 津高圭佑
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种修正曝射图案之方法,其中修正该曝射图案使得可得到转移影像,该传送影像可接近在微影程序中所需要的设计图案,在该微影程序中一标的基体依据该曝射图案曝射于光线以将该影像转移于该基体上,该曝射图案包含光透射部分,该等光透射部分具有周边,该周边将界定该光透射部分之轮廓,该方法包含下列步骤:将该需要的设计图案的轮廓分割成复数个端边,且更进一步对各该等端边指定复数个计算点;依据该需要的设计图案为该曝射图案曝射该基体后,在该基体上计算转移影像;计算距离値于该需要的图案之各该等端边上之各计算点之间,及在已曝射该图基体之后计算一相对应于该转移的影像中之各该等计算点的位置藉输入该等所计算之距离値于一选择自一包含函数-KEp或函数-K、多点…SIGMA.(Ei/Si.sup.2)/.SIGMA.(1/Si.sup.2)之函数的计算函数之内,其中K为系数,而第一所述之函数系选择于其中最大値或最小値存在于该端边之该等末端之间,及第二所述之函数系选择于其中该等距离値表示相对于该端边之倾斜度;以及根据该计算函数之输出値修正该曝射图案之各端边位置。2.一种在微影程序中修正曝射图案之方法,该方法包含下列步骤:将需要的设计图案的轮廓分割成复数个端边,且进一步对各该等端边指定复数个计算点;依据采用作为曝射图案的需要之图案于当该基体曝射于光线时,计算在标的基体上的转移能量强度;以及藉输入该转移能量强度至一含有系数之计算函数而确定一修正的曝射图案,且依据该计算函数的输出値进一步地修正该曝射图案的各该等端边位置。3.如申请专利范围第2项之修正曝射图案之方法,其中该计算函数输出该转移能量强度之乘积合,且对一位置输出特定系数,该位置系对应该转移影像中的各计算点。4.如申请专利范围第2项之修正曝射图案之方法,其中当在转移影像中的一位置处找出该转移能量强度的最大或最小値,其中该传送影像对应指定予该端边之一的复数个计算点之两末端外的其他计算点之时,取该最大或最小値作为该计算函数的输出値,且在其他的例子中,取申请专利范围第3项中所定义的输出値为该计算函数的输出値。5.如申请专利范围第2项之修正曝射图案之方法,其中为该可见的轮廓形的角落处分割该需要之设计图案的可见之轮廓。6.如申请专利范围第2项之修正曝射图案之方法,其中当在传送影像中的一位置处找出该转移能量强度的最大或最小値,其中该传送影像对应指定予该端边之一的多个计算点之两末端外的其他计算点之时,取该最大或最小値作为该计算函数的输出値。7.如申请专利范围第3项之修正曝射图案之方法,其中设定该计算函数中的特定系数使其与转移能量强度的倾斜度之乘方的绝对値成反比,而该强度对应一位置处的曝射图案,此位置对等于该转移影像的计算点。8.一种用于修正曝射图案的装置,而该曝射图案系依据申请专利范围第1至6项中任一项所定义的方法制造。9.一种提供曝射图案的曝射遮罩,其中根据申请专利范围第1至6项中任一项所定义的方法决定该曝射图案是否为一遮罩图案。10.一种修正曝射图案之方法,该方法系根据在申请专利范围第1至6项中任一项所定义的方法决定之曝射图案。图式简单说明:第1图说明一相关技术之曝射图案修正的例子;第2A图显示一设计图案及其传送影像的例子;第2B图显示第2A图设计图案中相关技术修正及其传送影像的例子;第3图显示端边及计算点;第4A图在端边中心之影像尖峰的曝射图案修正中,传送影像及计算点之间距离的计算;第4B图显示偏移的传送影像;第5A图显示在端边两侧中尖峰之曝射图案修正中距离的计算;第5B图显示偏移的传送影像;第6图显示修正曝射图案之例子;第7图显示在第一及第五实施例中的曝射图案;第8图显示在第一及第五实施例中的曝射图案的分割;第9图显示在第一及第五实施例中指定的计算点;第10图显示在案一及第五实施例中由第8图之设计图案所致之传送影像;第11图显示在第一及第五实施例中修正的曝射图案;第12图显示在第一及第五实施例中由第11图之修正曝射图案所致之传送影像;第13图显示在第一比较的例子中计算点的设计图案之分割及计算点之指定;第14图显示第一比较的例子中修正之曝射图案;第15图显示在第一比较的例子中第14图之修正曝射图案的传送影像;第16图显示在第二比较的例子中曝射图案的分割;第17图显示在第二比较的例子中指定的计算点;第18图显示在第二比较的例子中修正之曝射图案;第19图显示在第二比较例子中由第18图之修正曝射图案所致之传送影像;第20图显示第二实施例中的设计图案;第21图显示第二实施例中指定的计算点;第22图显示第二实施例中由第20图之设计图案所致之传送影像;第23图显示第二实施例中修正的曝射图案;第24图显示第二实施例中,由第23图之修正曝射图案所致之传送影像;第25图显示第三实施例中的设计图案;第26图显示第三实施例中设计图案的分割;第27图显示第三实施例中指定的计算点;第28图显示第三实施例中由第25图之设计图案的微影图案所产生的传送影像;第29图显示第三实施例中的修正微影图案;第30图显示第三实施例中由第29图之修正微影图案的微影技术所产生的传送影像;第31图显示第三实施例中由含修正微影图案之电子束微影装置所产生的倾斜度;第32图显示第四实施例中的设计图案;第33图显示第四实施例中设计图案的分割;第34图显示第四实施例中的指定计算点;第35图显示第四实施例中,由第32图之设计图案所产生的光强度影像;第36图显示第四实施例中修正的曝射图案;第37图显示第四实施例中由第36图之修正曝射图案所产生的传送影像;以及第38图显示第五实施例中决定一误差的流程图。
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