发明名称 具有过滤装置之携带头薄膜支撑装置
摘要 本创作为一种薄膜支撑装置,特别是一种适用于化学机械研磨装置中携带头之薄膜支撑装置,包含薄膜支撑基座,系为一盘状结构包含复数个具有第一直径之第一穿孔形成于其中,以及包含过滤装置,配置于上述之薄膜支撑基座之表面,至少覆盖通往真空系统之路径,过滤装置系为一盘状结构包含复数个具有第二直径之第二穿孔形成于其中,其中上述之第二直径小于该第一直径。
申请公布号 TW487003 申请公布日期 2002.05.11
申请号 TW089215419 申请日期 2000.09.05
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 张益生;蔡宪书
分类号 B24B7/24;B24B37/04;B01D29/05 主分类号 B24B7/24
代理机构 代理人 李长铭 台北巿中山区南京东路二段二十一巷八号二楼
主权项 1.一种薄膜支撑装置,特别是适用于化学机械研磨 装置中携带头之薄膜支撑装置,包含薄膜支撑基座 ,系为一盘状结构包含复数个具有第一直径之第一 穿孔形成于其中,其特征在于包含过滤装置,配置 于上述之薄膜支撑基座之表面,且至少覆盖通往真 空系统之路径,上述过滤装置系为一盘状结构包含 复数个具有第二直径之第二穿孔形成于其中,其中 上述之第二直径小于该第一直径。2.如申请专利 范围第1项之具有过滤装置之薄膜支撑装置,其特 征包含上述薄膜支撑基座之组成材质包含合金。3 .如申请专利范围第1项之具有过滤装置之薄膜支 撑装置,其特征包含上述薄膜支撑基座之组成材质 包含不锈钢。4.如申请专利范围第1项之具有过滤 装置之薄膜支撑装置,其特征包含上述薄膜支撑基 座之组成材质包含陶瓷材料。5.如申请专利范围 第1项之具有过滤装置之薄膜支撑装置,其特征包 含上述薄膜支撑基座之表面经过阳极处理。6.如 申请专利范围第1项之具有过滤装置之薄膜支撑装 置,其特征包含上述过滤装置之组成材质包含合金 。7.如申请专利范围第1项之具有过滤装置之薄膜 支撑装置,其特征包含上述过滤装置之组成材质包 含不锈钢。8.如申请专利范围第1项之具有过滤装 置之薄膜支撑装置,其特征包含上述过滤装置之组 成材质包含陶瓷材料。9.如申请专利范围第1项之 具有过滤装置之薄膜支撑装置,其特征包含上述过 滤装置之表面经过阳极处理。10.如申请专利范围 第1项之具有过滤装置之薄膜支撑装置,其特征包 含上述过滤装置之第二穿孔之第二直径为介于0.02 至0.08厘米。图式简单说明: 图一为本创作薄膜支撑装置正面之俯视图。 图二为本创作过滤装置之俯视图。 图三为本创作薄膜支撑装置背面俯视图以及截面 图。
地址 新竹科学工业园区园区三路一二一号
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