发明名称 光学资讯记录碟片与染料溶液之制备
摘要 一种显示良好记录特征的光学资讯记录碟片系经由下述步骤制备,涂覆雷射光敏染料于氟化环状烷或烯之染料溶液于一透明基材碟片上以及乾燥涂布后的染料溶液。氟化环状烷或烯可与其它有机溶剂合并使用。
申请公布号 TW486432 申请公布日期 2002.05.11
申请号 TW089110283 申请日期 2000.05.26
申请人 富士照相胶卷股份有限公司 发明人 宇佐美由久;稻垣由夫
分类号 B41M5/26;G11B7/00 主分类号 B41M5/26
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种制备一光学资讯记录碟片之方法,包含涂覆 一染料溶液于一透明基板碟片上,以及乾燥涂覆后 的染料溶液之步骤,其中该染料溶液为一种雷射光 敏有机染料溶解于一种包含氟化环状烷或烯之有 机溶剂之溶液。2.如申请专利范围第1项之方法,其 中氟化环状烷或烯具有氟原子数目基于组成其主 链的碳原子数目为0.5至2.0倍。3.如申请专利范围 第1项之方法,其中氟化环状烷或烯为1,1,2,2,3,3,4-七 氟环戊烷。4.如申请专利范围第1项之方法,其中染 料溶液系经由混合有机染料及溶剂,以及维持所得 混合物于高于45℃但低于溶剂沸点达至少10℃之温 度经历5分钟至2小时之步骤制备。5.如申请专利范 围第1项之方法,其中溶剂包括氟化环状烷或烯,以 及有机液体其具有沸点高于氟化环状烷或烯之沸 点,其对基板大致呈惰性,以及染料可溶于其中,二 者容积比为99:1至51:49。6.如申请专利范围第5项之 方法,其中有机液体具有沸点低于250℃,但高于氟 化环状烷或烯之沸点达至少 10℃。7.如申请专利范围第5项之方法,其中有机液 体系选自由脂族酮、脂族烃、环脂族烃、羧酸酯 、脂族醚及醇组成的组群。8.如申请专利范围第5 项之方法,其中有机液体为具有式CF3CH2OH,HCF2CF2CH2OH ,H(CF2CF2)CH2OH及H(CF2CF2)3CH2OH之一的氟化醇。9.如申 请专利范围第5项之方法,其中有机液体为铜醇。10 .如申请专利范围第9项之方法,其中酮醇为二丙酮 醇。11.如申请专利范围第1项之方法,其中有机溶 剂包含氟化环状烷或烯,以及一种有机液体其具有 对染料的溶解度系高于氟化环状烷或烯对染料之 溶解度,及其对基板具有活性,二者系呈99.9:0.1至80: 20之容积比。12.如申请专利范围第11项之方法,其 中有机液体系选自由卤化脂族烃、芳族烃、酮、 亚、醯胺、羧酸酯、醚及组成的组群。13.如 申请专利范围第11项之方法,其中有机液体为一种 选自由二氯甲烷、二氯乙烷及四氯乙烷组成的组 群之卤化脂族烃。14.如申请专利范围第11项之方 法,其中有机液体为丙酮。15.如申请专利范围第1 项之方法,其中溶剂包含氟化环状烷或烯,及一种 氟化醇呈50:50至1:99之容积比。16.如申请专利范围 第15项之方法,其中氟化醇为2,2,3,3-四氟-1-丙醇。17 .如申请专利范围第1项之方法,其中有机染料为下 式花青染料: 其中Z1及Z2各自分别为形成5-或6-员含氮杂环族环 的原子基团;R1及R2各自分别为烷基;L1.L2.L3.L4及L5各 自分别为低甲基其可含有一或多个取代基;n1及n2 各自分别为0.1或2;p及q各自分别为0或1,M1为电荷中 和之相对离子;及m1为0或0以上之数目对应中和花 青染料之电子价数。18.如申请专利范围第17项之 方法,其中花青染料具有下式之一: 其中Z3及Z4各自分别为形成苯环或环之原子基团 ,且可含有一或多个取代基;R3.R4.R5.R6.R7及R8各自分 别为含1至8个碳原子之烷基;R9为氢,含1至8个碳原 子之烷基,含7至10个碳原子之芳烷基,含6至10个碳 原子之芳基,含1至8个碳原子之烷氧基,杂环族环, 卤原子,或含1至8个碳原子之胺基甲醯基;M2m2-为阴 离子;以及m2为1或2。19.如申请专利范围第1项之方 法,其中有机染料为具有下式之偶氮染料之金属错 合物: 其中M为金属原子;X为氧原子,硫原子或=NR11其中R11 表示氢,烷基,芳基,醯基,烷基磺醯基或芳基磺醯基 ;Z11为形成5-为6-员含氮杂环族环之原子基团;及Z12 为形成芳香环或杂环族芳香环之原子基团。20.如 申请专利范围第19项之方法,其中偶氮染料之金属 错合物具有下式: 其中M为一选自由铁、钴、镍、铜、锌、钯、铂及 金组成的组群之金属原子;Y为氧原子,硫原子或=NR 12;R12.R13及R14自分别为含1至12个碳原子之烷基,其 可含有一或多个取代基;R13及R14可组合形成一个环 ;R15为含1至12个碳原子之烷基,其可含有一或多个 取代基,含6至16个碳原子之苯基,其可含有一或多 个取代基或基;R16及R17各自分别为氢,卤原子,烷 基,芳基,氰基,醯基,烷基磺醯基或芳基磺醯基;以 及R18.R19及R20各自分别为氢,烷基,芳基,羟基,烷氧 基,芳氧基,胺基,羧醯胺基,磺醯胺基,氰基,卤原子, 醯基,烷基磺醯基或芳基磺醯基。21.如申请专利范 围第1项之方法,其中有机染料为具有下式之一之 氧醇染料: 其中A21.A22.B21及B22自各分别为取代基;Y21及Z21各自 分别为形成碳环族环或杂环族环之原子基团;E及G 各自分别为形成共轭双键链的原子基团;X21为=O,=NR 21或=C(CN)2;X22为-O,-NR21或-C(CN)2[其中R21为取代基];L21 .L22.L23.L24及L25各自分别为低甲基其可经取代;Vk+为 阳离子;n3及n4各自分别为0.1或2;x及y各自分别为0或 1;及k为1至10之整数。22.如申请专利范围第21项之 方法,其中氧醇染料具有下式: 其中R51.R52.R53,及R54各自分别为氢原子,烷基,芳基, 芳烷基,或杂环族基,各基可含一或多个取代基;l31. L32及L33各自分别为低甲基可含一或多个取代基;n5 为0.1.2或3;及Vk+为阳离子,其中k为1至10之整数。23. 一种光学资讯记录碟片,包含一透明基板碟片及一 记录染料层设置于基板碟片上,其中记录染料层系 经由于基板碟片上涂覆一种由一种雷射光敏有机 溶剂溶解于一种包含氟化环状烷或烯之有机溶剂 之染料溶液,以及乾燥涂覆后的染料溶液制造。24. 一种染料溶液,包含一种雷射光敏有机染料溶解于 一种包含氟化环状烷或烯之有机溶剂。25.如申请 专利范围第24项之染料溶液,其中氟化环状烷或烯 具有氟原子数基于组成其主链的碳原子数为 0.5至2.0倍。26.如申请专利范围第24项之染料溶液, 其中氟化环状烷或烯为1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷。27 .如申请专利范围第24项之染料溶液,其系经由混合 有机染料之溶剂,以及维持所得混合物于高于45℃, 但低于溶剂沸点达至少10℃之温度经历5分钟至2小 时时间之步骤制备。28.如申请专利范围第24项之 染料溶液,其中溶剂包括氟化环状烷或烯,以及有 机液体其具有沸点高于氟化环状烷或烯之沸点,其 对基板大致呈惰性,以及染料可溶于其中,二者容 积比为99:1至51:49。29.如申请专利范围第24项之染 料溶液,其中有机液体为具有式CF3CH2OH,HCF2CF2CH2OH,H( CF2CF2)CH2OH及H(CF2CF2)3CH2OH之一的氟化醇。30.如申请 专利范围第24项之染料溶液,其中有机溶液包含氟 化环状烷或烯,以及一种有机液体其具有对染料的 溶解度系高于氟化环状烷或烯对染料之溶解度,及 其对基板具有活性,二者系呈99.9:0.1至80:20之容积 比。31.如申请专利范围第24项之染料溶液,其中溶 剂包含氟化环状烷或烯,及一种氟化醇呈50:50至1:99 之容积比。
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