Verfahren zur Prüfung auf Maskenfehler und Gerät zur Elektronenstrahlbelichtung

摘要

Zur Fehlerprüfung einer Elektronenstrahl-Belichtungsmaske M wird ein Maskensignal S3 auf Basis von Transmissionselektronen 2Ba, die durch zweidimensionales Abtasten der Elektronenstrahl-Belichtungsmaske M durch ein Elektronenstrahl-Abtastgerät 2 erfasst wird, erfasst und ein CAD-Signal S4 entsprechend einer CAD-Graphik wird erfasst und mit dem Ausgang des Maskensignals S3 auf Basis der CAD-Daten DT zur Herstellung der Elektronenstrahl-Belichtungsmaske M synchronisiert. Fehler in der Elektronenstrahl-Belichtungsmaske M werden auf Basis der Vergleichsergebnisse des Maskensignals S3 und des CAD-Signals S4 geprüft.