设有显影速度测量图的光掩模及测量显影速度匀度的方法

摘要

一种光掩模，包括多个位于限定在光掩模中部区域的两个相同部分之一上的、配置成阵列的突起形图形元件，以及多个位于所述区域另一部分上的、配置成阵列的凹坑形图形元件，两个区上的图形元件都用与光掩模材料相同的材料制成并且具有相同的形状，且其尺寸沿阵列垂直方向和阵列水平方向逐渐增大或减小。用这种光掩模，就能够容易迅速地测定所用显影设备的显影速度匀度，且可实现显影设备显影速度的简易调整并缩短调整时间。$#!

主权项

1、一种用于形成光刻胶图形的光掩模，包括：一种显影速度测量图形，包括多个位于限定在光掩模中部区域的两个相同部分之一上的、配置成阵列的突起形图形元件，以及多个位于所述区域另一部分上的、配置成阵列的凹坑形图形元件，两个区上的图形元件都用与光掩模材料相同的材料制成并且具有相同的形状，且其尺寸沿阵列垂直方向和阵列水平方向逐渐增大或减小。