| 发明名称 |
Etching a substrate using an inductively coupled plasma |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2368714(A) |
申请公布日期 |
2002.05.08 |
| 申请号 |
GB20010020574 |
申请日期 |
2001.08.23 |
| 申请人 |
* ROBERT BOSCH GMBH |
发明人 |
KLAUS * BREITSCHWERDT;VOLKER * BECKER;FRANZ * LAERMER;ANDREA * SCHILP |
| 分类号 |
H05H1/10;B01J19/08;H01J37/32;H01L21/3065;H05H1/46;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
H05H1/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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