| 发明名称 | 曝光方法和装置 | ||
| 摘要 | 一种曝光方法,不用太多地降低效率即可在曝光过程中高精度地检测作为曝光对象的基板表面相对投影光学系像面的散焦量,以自动聚焦方式对焦。使用包含照明狭缝部(54a)－光学构件(63a)的第1斜入射方式的AF传感器和包含照明狭缝部(54b)－光学构件(63b)的第2斜入射方式的AF传感器,由这些AF传感器将狭缝像(F1f、F2f)照射到相同的检测点,分别进行聚焦位置的测量。将2个测量值的差分的1/2作为测量值的漂移,对这些AF传感器的测量值修正该漂移。之后,利用该第1或第2AF传感器按自动聚焦方式对焦。 | ||
| 申请公布号 | CN1348602A | 申请公布日期 | 2002.05.08 |
| 申请号 | CN99813401.5 | 申请日期 | 1999.11.12 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 西健尔 |
| 分类号 | H01L21/027 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 马江立 |
| 主权项 | 1.一种曝光方法，通过投影光学系将掩模图的像投影到基板台上的基板上；其特征在于：使用第1自动聚焦位置检测系和第2自动聚焦位置检测系，该第1自动聚焦位置检测系通过在该投影光学系的物体面侧或像面侧的被检测面上的第1组多个检测点分别相对该投影光学系的光轴倾斜地照射检测用光束，从而分别检测出该多个检测点在上述光轴方向上的位置即聚焦位置，该第2自动聚焦位置检测系通过在上述被检测面上的第2组多个检测点分别相对上述光轴倾斜地照射检测用光束，从而分别检测出该多个检测点的聚焦位置，上述第1组多个检测点和上述第2组多个检测点实质上相互共有至少一部分检测点，利用上述第1和第2聚焦位置检测系分别在上述共有的检测点检测聚焦位置，根据该检测结果对上述第1和第2聚焦位置检测系的检测结果进行标定，利用上述第1和第2聚焦位置检测系中至少一方的检测结果进行上述基板表面相对上述投影光学系像面的对焦。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||