发明名称 MINIMIZATION OF ELECTRON FOGGING IN ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY
摘要 전자빔 리소그래피법에서 전자분무효과를 감소시키는 차폐 어셈블리 (24). 전자빔 컬럼의 마지막 개구와 빔 타겟 사이에 위치한 이 차폐 어셈블리는 타겟의 전자빔 입사점을 향하는 날카로운 에지 (28) 를 가진 복수의 베인 (26) 이고, 이들 베인은 차폐 어셈블리의 중앙을 통과하는 전자빔 경로 (18) 주위에 동심원적 그리고 원뿔형으로 되어있다. 또한, 날카로운 에지는 외부 베인면에 대해서 10°내지 20°사이의 각을 가진 베인들의 단부에서 경사면을 나타내고, 이들 경사면은 전자빔 경로를 향하도록 한다. 또한, 차폐 어셈블리는 빔입사점 (22) 를 향하는 각을 가진 베인들을 가지고, 원뿔형 베인 어셈블리의 정점이 빔입사점과 일치하도록 할 수 있다.
申请公布号 KR20020033159(A) 申请公布日期 2002.05.04
申请号 KR20027001079 申请日期 2002.01.25
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;G01Q70/10;H01J37/09;H01J37/305;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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