摘要 |
<p>레지스트 뿐만 아니라 폴리머 제거력이 뛰어나고 하부막을 손상시키지 않는 레지스트 제거제와 레지스트 제거용 조성물, 이들의 제조 방법 및 이를 이용한 레지스트 제거 방법에 관해 개시한다. 본 발명에 따른 레지스트 제거제는 알콕시 N-하이드록시알킬 알칸아미드로 구성된다. 레지스트 제거용 조성물은 알콕시 N-하이드록시알킬 알칸아미드와 쌍극자 모멘트가 3 이상인 극성 물질, 손상 방지제 및 알칸올 아민으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상의 화합물을 포함한다.</p> |