| 发明名称 |
Reduction projection objective lens for microlithography |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1006388(A3) |
申请公布日期 |
2002.05.02 |
| 申请号 |
EP19990121617 |
申请日期 |
1999.10.30 |
| 申请人 |
CARL ZEISS;CARL-ZEISS-STIFTUNG, TRADING AS CARL ZEISS |
发明人 |
SCHUSTER, KARL-HEINZ |
| 分类号 |
H01L21/027;G02B13/14;G02B13/24;G03B27/32;G03F7/20;(IPC1-7):G02B13/14;G02B17/08 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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