阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布与其制程

摘要

本发明系一种阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布与其制程，该阴极射线管之玻璃面板外表面先以溅镀处理形成复数层溅镀层，再于溅镀层表面以喷雾涂布处理形成抗眩光层。由于该溅镀原料含有ITO等导电材料，藉溅镀涂布方式之处理，使该溅镀层结构致密，导电度高，另，藉该溅镀层与该抗眩光层邻接之保护层之搭配使该整个涂布层，除具抗眩光特性外，更具较宽频宽(wide-band)之抗反射特性。由于这两种涂布方法结合使用之加乘效果，其特征除以上之特点外，其抗电磁辐射特性，表面硬度高，抗指纹性，量产性佳，亦均为本发明突显之优点。

主权项

1.一种阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布,此阴极射线管具有一玻璃面板,此多层涂布包含:在该玻璃面板的外表面以溅镀涂布方式涂布之复数层溅镀层;一抗眩光层,系以喷雾涂布方式均匀涂布于该溅镀层之外表面。2.如申请专利范围第1项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布,其中该复数层之抗电磁辐射层系以溅镀法涂布所产生,该涂布主要包含:一附着层,该附着层系涂布于该阴极射线管之玻璃面板外侧表面上;一光吸收层,该光吸收层系涂布于该附着层之外侧表面上;一导电层,该涂布层系涂布于该光吸收层之外侧表面上;一保护层,该保护层系涂布于该导电层之外侧表面上。3.如申请专利范围第2项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布,其中该附着层之结构成分以含有二氧化矽为佳,该附着层厚度约为10-20nm(10-9m)。4.如申请专利范围第2项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布,其中该光吸收层之成分以含有铬或其金属氧化物为佳,该光吸收层厚度约为10-20nm(10-9m)。5.如申请专利范围第2项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布,其中该导电层之材料以含锡铟氧化物(ITO)成分为佳,该导电层厚度约为20-40nm(10-9m)。6.如申请专利范围第2项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布,其中该保护层之结构成分以含有二氧化矽为佳,该保护层厚度约为20-30nm(10-9m)。7.如申请专利范围第2项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布,其中该导电层藉由一导体将其连接至接地端。8.如申请专利范围第1项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布,其中该抗眩光层之涂布材料为一种水溶液的调和,可为包括:一个矽氧化物,重量百分比为5-15%;一酸类,重量百分比为0.05-0.1%;一醇类,重量百分比为5-50%;一2-丁酮,重量百分比为3-8%;一介面活性剂,重量百分比为0.1-0.5%。9.如申请专利范围第8项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布,其中该矽氧化物可为包括Si(OEt)4其中Et为乙基,该水解聚合物之重量平均分子量可为1500-4000g/mole为佳,而该酸类可为包括硫酸,硝酸,和盐酸,而该醇类可为包括异丙醇,甲醇,和乙醇,而该介面活性剂可为POP(Polyalklene Oxide-modifiedPolydimethylsiloxanes)。10.如申请专利范围第1项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布,其中该抗眩光层厚度约为0.001-0.01mg/cm2。11.一种阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法,包含下列步骤制备一玻璃面板;在此玻璃面板上溅镀一附着层;在此附着层上溅镀一吸收层;在此吸收层上溅镀一导电层;在此导电层上溅镀一保护层;以喷雾制程在保护层上涂布抗眩光材料。12.如申请专利范围第11项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法,其中该附着层之结构成分以含有二氧化矽为佳,该附着层厚度约为10-20nm(10-9m)。13.如申请专利范围第11项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法,其中该光吸收层之成分以含有铬或其金属氧化物为佳,该光吸收层厚度约为10-20nm(10-9m)。14.如申请专利范围第11项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法,其中该导电层之材料以含锡铟氧化物(ITO)成分为佳,该导电层厚度约为20-40nm(10-9m)。15.如申请专利范围第11项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法,其中该保护层之结构成分以含有二氧化矽为佳,该保护层厚度约为20-30nm(10-9m)。16.如申请专利范围第11项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法,其中该导电层藉由一导体将其连接至接地端。17.如申请专利范围第11项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法,其中该抗眩光层之涂布材料为一种水溶液的调和,可为包括:一个矽氧化物,重量百分比为5-15%;一酸类,重量百分比为0.05-0.1%;一醇类,重量百分比为5-50%;一2-丁酮,重量百分比为3-8%;一介面活性剂,重量百分比为0.1-0.5%。18.如申请专利范围第17项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法,其中该矽氧化物可为包括Si(OEt)4其中Et为乙基,该水解聚合物之重量平均分子量可为1500-4000g/mole为佳,而该酸类可为包括硫酸,硝酸,和盐酸,而该醇类可为包括异丙醇,甲醇,和乙醇,而该介面活性剂可为POP(Polyalklene Oxide-modified Polydimethylsiloxanes)。19.如申请专利范围第11项所述之阴极射线管之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法,其中该抗眩光层厚度约为0.001-0.01mg/cm2。图式简单说明:第1图乃根据本发明之一较佳具体实例阴极射线管之纵剖面示意图。第2图乃根据本发明之阴极射线管之玻璃面板上具溅镀层及抗眩光层之涂布层之局部剖面示意图。第3图乃根据本发明之抗电磁辐射及抗眩光多层涂布之流程图。第4图乃根据本发明之抗反射率分析图。