| 主权项 |
1.一种制造半导体产品所用之设备,特别是用来制 造晶圆,此种设备在至少一个无尘室中具有多个制 造单元及测量单元,其特征为: 在无尘室(4)中设置一种由加工站(1)所形成之配置, 此种配置包含:至少一个制造单元(2)或测量单元(3) ,一个配置于此种单元上之制程缓冲器,用来存放 半导体产品,一个操纵装置,以自动操作方式使半 导体产品供应至制程缓冲器或由制程缓冲器运出, 各加工站(1)经由传送系统(5)而互相连接。2.如申 请专利范围第1项之设备,其中制程缓冲器由一种 具有多个台架面(11)之台架(10)所构成。3.如申请专 利范围第2项之设备,其中制造单元(2)或测量单元(3 )具有一个负载-或卸载站(8),台架(10)直接配置于此 负载-或卸载站(8)之前。4.如申请专利范围第3项之 设备,其中此台架(10)配置于制造单元(a)或测量单 元(3)之负载-或卸载站(8)上方。5.如申请专利范围 第2至4项中任一项之设备,其中此半导体产品输送 至小箱(6)中,其中设有分开之各别之台架面(11)以 便供应或运走各小箱(6)。6.如申请专利范围第5项 之设备,其中各台架面(11)依据其功能而构成。7.如 申请专利范围第6项之设备,其中依据制造单元(2) 或测量单元(3)之加工容量而在所属之台架(10)中在 一预定数目之台架面(11)上制备一些小箱(6),其包 含半导体产品而由所属之制造单元(2)或测量单元( 3)运出,已运来之这些包含半导体产品之小箱(6)可 由操纵装置放置在一预定数目之台架面(11)上。8. 如申请专利范围第1项之设备,其中此操纵装置是 由台架控制装置(12)所构成。9.如申请专利范围第8 项之设备,其中此台架控制装置(12)具有至少二个 停放面(13,14),具有半导体产品之小箱(6)可停放在 停放面(13)上以便输送至制程缓冲器,而停放在停 放面(14)上具有半导体制品之这些小箱(6)则由制造 单元(2)中运走。10.如申请专利范围第8或9项之设 备,其中此台架控制装置(12)具有夹具,利用此夹具 可将此种具有半导体产品之小箱传送至制程缓冲 器且可由该处取出。11.如申请专利范围第8项之设 备,其中此加工站(1)之制造单元(2)和测量单元(3)之 运行位置是储存在此加工站(1)之台架控制装置(12) 中以作为参数値。12.如申请专利范围第1项之设备 ,其中在加工站(1)中配置多个制造单元(2)和测量单 元(3)以便进行一种制程。13.如申请专利范围第12 项之设备,其中这些制造单元(2)和测量单元(3)分别 由机器(7)及/或个人工作区(9)所构成。14.如申请专 利范围第1,2或9项之设备,其中设有一种制程缓冲 器用之填充状态调整器,只要此制程缓冲器之填充 度未超过一预定之额定値时,则此制程缓冲器即须 进行一种再填充过程。15.如申请专利范围第1,2或9 项之设备,其中设有至少一个制程缓冲器作为半导 体产品之转移站(15),以便使半导体产品双方向地 与传送系统(5)进行替换。16.如申请专利范围第14 项之设备,其中设有至少一个制程缓冲器作为半导 体产品之转移站(15),以便使半导体产品双方向地 与传送系统(5)进行替换。17.如申请专利范围第15 项之设备,其中此形成该转换站(15)所用之制程缓 冲器是由台架(10)所构成,台架(10)具有一预定数目 之台架面(11),这些台架面(11)对该加工站(1)之操纵 装置而言是可接近的且半导体产品之运出或运入 此传送系统(5)是经由这些台架面来进行。图式简 单说明: 第1图制造半导体产品所用设备之图解,其具有加 工站所形成之配置。 第2图用于第1图所示设备中之加工站之实施例之 图解。 |
