发明名称 光记录介质和用于制造该光记录介质的设备和方法
摘要 光记录介质(10)具有:凹槽轨道(11),其上记录信息被记录在第一区域,而预定数据作为压纹坑行(19)被记录在第二区域,以阻止别的写在压纹坑行上的数据被读取;被形成在第一区域和第二区域内彼此相邻的凹槽轨道之间的凸区轨道(12);以及,被设置在第一区域和第二区域内的凸区轨道上并包括地址信息的预坑(13,45,46)。第二区域内所形成的预坑(45,46)的形状与第一区域内所形成的预坑(13)的形状不同,使得在第二区域内获得对应于该预坑的更大幅度的预坑检测信号。
申请公布号 CN1347083A 申请公布日期 2002.05.01
申请号 CN01135705.3 申请日期 2001.09.10
申请人 日本先锋公司 发明人 加藤正浩
分类号 G11B7/00;G11B7/24;G11B7/007 主分类号 G11B7/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 程天正;王忠忠
主权项 1.一种光记录介质(10,60,70),记录信息可以被光学地记录在该光记录介质上,其特征在于,所述光记录介质包括:一基板(16);形成在所述基板上的一记录表面,它具有一第一区域和一第二区域,记录信息被记录在所述第一区域内,而控制记录和/或再现记录信息的预定数据被记录在所述第二区域内;形成在所述第一区域和第二区域内的凹槽轨道(11),其上记录信息被记录在所述第一区域内,且预定数据作为压纹坑行(19)被记录在所述第二区域,以便阻止别的写在压纹坑行上的数据被读取;形成在所述第一区域和第二区域内的凸区轨道(12),所述凸区轨道被形成于彼此相邻的所述凹槽轨道之间;以及被设置在第一区域和第二区域内的所述凸区轨道(12)上的预坑(13,45,46,48),包括表示在所述凹槽轨道上的记录位置的地址信息;第二区域内所形成的预坑(45,46)的形状与第一区域内所形成的预坑(13,47)的形状不同,使得与第一区域相比,在第二区域内可获得对应于该预坑的更大幅度的预坑检测信号。
地址 日本东京都