发明名称 | 使用皮带式抛光垫抛光平面的设备和方法 | ||
摘要 | 本发明涉及晶片、平板显示器(FPP)和硬驱动盘(HDD)的化学机械平面化(CMP)的设备和方法。优选设备包括相对于地面以垂直方向空间定位的环形皮带。抛光垫粘到该皮带的外表面上。皮带的内表面具有多个晶片支架。电机用于驱动环形皮带在两皮带轮上运转。调节装置用于调节皮带的张力和位置。该新型CMP设备能多方位地进行安装,从而节省制造空间。$ | ||
申请公布号 | CN1083754C | 申请公布日期 | 2002.05.01 |
申请号 | CN98106465.5 | 申请日期 | 1998.02.20 |
申请人 | 艾伯特·胡;伯福德·J·弗曼;穆罕穆德·阿布沙班 | 发明人 | 艾伯特·胡;伯福德·J·弗曼;穆罕穆德·阿布沙班 |
分类号 | B24B37/04;B24B21/12 | 主分类号 | B24B37/04 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 何秀明 |
主权项 | 1.一种用于抛光具有平坦表面的物件的设备,包括:用于抛光所述平坦表面的抛光装置;与所述抛光装置耦合相连用于旋转所述抛光装置的驱动装置;用于固定所述抛光装置的固定装置;用于压靠所述抛光装置固定物件用以进行抛光的装卸装置;以及该设备相对于所述设备牢牢安装的安装空间以多方位立体安装,从而使物件的所述平坦表面相对于由所述抛光装置以下述方式确定的抛光平面进行固定;该方式为相对于所述抛光平面的正常矢量实质上不平行于重力加速度矢量。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |