| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft poröse Schichten, ein Verfahren zu deren Herstellung sowie die Verwendung dieser Schichten in der Mikroelektronik, in Sensoren, bei katalytischen Reaktionen, bei Trennverfahren sowie in optischen Schichten. Die erfindungsgemäßen Schichten werden durch Auftragen einer Suspension poröser Partikel auf ein Substrat mittels Spin-Coating hergestellt.</p> |
