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发明名称 MULTIPLE STAGE CLEANING PROCESS FOR PLASMA ETCHING CHAMBERS
摘要
申请公布号 EP1198829(A1) 申请公布日期 2002.04.24
申请号 EP20000950705 申请日期 2000.07.26
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 CHOW, WAICHING;WILLIAMS, RANEY;LILL, THORSTEN, B.;CHEN, ARTHUR, Y.
分类号 H01L21/302;H01L21/02;H01L21/3065;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/321 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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