| 主权项 |
1.一种在薄板上进行雷射钻孔所用之方法,此薄板 具有至少一种金属层及至少一层介电质层(其由有 机材料所构成),其特征是使用一种频率加倍之Nd- 钒(V)盐-雷射,此种雷射具有以下之参数: -脉波宽度<40 ns -脉波频率≧40 KHz用于金属层时 ≧20 KHz用于介电质层 时 -波长=532nm。2.如申请专利范围第1项之方法,其中 使用一种小于30 ns之脉波宽度。3.如申请专利范围 第1或第2项之方法,其中使用一种聚焦式雷射束,其 光点直径介于10m和100m之间。4.如申请专利范 围第3项之方法,其中使用一种聚焦式雷射束,其光 点直径介于20m和40m之间。5.如申请专利范围 第1项之方法,其中该有机材料中混合一种添加物, 此种添加物可良好地吸收波长532nm之雷射束。6.如 申请专利范围第5项之方法,其中使用至少一种无 机染料及/或有机染料及/或至少一种可溶解聚合 物之染料及/或至少一种纤维形式之填料作为添加 物。7.如申请专利范围第6项之方法,其中使用至少 一种无机之红色染料及/或一种有机之红色染料及 /或一种可溶解聚合物之红色染料作为添加物。8. 如申请专利范围第6或第7项之方法,其中该有机材 料中混合0.1Gew.%至5.0Gew.%之染料。9.如申请专利范 围第6或第7项之方法,其中该有机材料中混合1Gew.% 至2Gew.%之染料。10.如申请专利范围第5至7项中任 一项之方法,其中该有机材料藉由添加物之混合而 使得对波长532nm之雷射束具有至少50%之吸收率。11 .如申请专利范围第8项之方法,其中该有机材料藉 由添加物之混合而使得对波长532nm之雷射束具有 至少50%之吸收率。12.如申请专利范围第9项之方法 ,其中该有机材料藉由添加物之混合而使得对波长 532nm之雷射束具有至少50%之吸收率。13.如申请专 利范围第5至7项中任一项之方法,其中该有机材料 藉由添加物之混合而使得对波长532nm之雷射束具 有至少60%之吸收率。14.如申请专利范围第8项之方 法,其中该有机材料藉由添加物之混合而使得对波 长532nm之雷射束具有至少60%之吸收率。15.如申请 专利范围第9项之方法,其中该有机材料藉由添加 物之混合而使得对波长532nm之雷射束具有至少60% 之吸收率。16.如申请专利范围第5至7项中任一项 之方法,其中该有机材料藉由添加物之混合而使得 对波长532nm之雷射束具有至少80%之吸收率。17.如 申请专利范围第8项之方法,其中该有机材料藉由 添加物之混合而使得对波长532nm之雷射束具有至 少80%之吸收率。18.如申请专利范围第9项之方法, 其中该有机材料藉由添加物之混合而使得对波长 532nm之雷射束具有至少80%之吸收率。19.一种薄板 上进行雷射钻孔所用之装置,此薄板具有至少一层 金属层和至少一层介电质层(其由有机材料所构成 ),其特征为具有一种频率双倍之Nd-钒(V)盐-雷射,此 种雷射具有以下之参数: -脉波宽度<40 ns -脉波频率≧40 KHz用于金属层时 ≧20 KHz用于介电质层 时 -波长=532nm。 |
