发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR IMPROVED SALICIDE RESISTANCE ON POLYSILICON GATES
摘要
申请公布号 IL143077(D0) 申请公布日期 2002.04.21
申请号 IL19990143077 申请日期 1999.11.04
申请人 INTEL CORPORATION 发明人
分类号 H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8234;H01L29/49;H01L29/78;(IPC1-7):H01L 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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