Verfahren zum Herstellen von integrierten Schaltungsanordnungen sowie zugehörige Schaltungsanordnungen, insbesondere Tunnelkontaktelemente

摘要

Die Erfindung betrifft unter anderem ein Verfahren, bei dem auf eine von einer Substratschicht (12) getragene elektrisch leitfähige Kontaktschicht eine elektrisch nicht leitfähige Maskenschicht (16) aufgebracht wird. In die Maskenschicht (16) wird ein Freiraum eingebracht. Anschließend werden im Freiraum elektrochemisch mehrere Schichten (52 bis 60) abgeschieden. Oberhalb der zuletzt abgeschiedenen Schicht (60) werden anschließend Schichten (72 und 76) aufgebracht. In einem Abtragungsprozess wird dann die Maskenschicht (16) bis auf die Höhe der obersten Schicht (76) abgetragen.