| 摘要 |
<p>본 발명은 유전체 듀플렉서를 구성하는 유전체 블록에 있어서, 유전체 블록에 형성되는 공진홀과 공진홀의 개방부가 만나는 개방면에 소정의 도전성 영역을 형성한후 개방면에 절연층을 개재하여 도전성 영역을 형성함으로써 패턴 설계의 자유도를 향상시킬수 있도록 한 듀플렉서 유전체 필터에 관한 것으로서 그 기술적인 구성은, 공진홀과 연결되어 도전성 물질의 패턴이 형성되는 개방면에 절연층을 형성한후 그 상측에 개방면의 패턴과 겹치도록 하는 패턴을 적층 형성하고, 상기 절연층의 일측에 접지전극과 연결토록 홀을 형성한후 도전성 물질을 도포하여 접지전극과 열결토록 하는 구성으로 이루어 지는 것을 특징으로 한다.</p> |
