| 摘要 |
<p>대면적의 기판에 빠른 속도로 균일한 두께의 막을 증착할 수 있는 챔버구조를 갖는 PECVD 장비에 관해 개시하고 있다. 본 발명의 PECVD 장비의 가장 큰 특징은 개선된 챔버 구조를 채용한 것인데, 샤워헤드 대신에 인젝터를 사용하였으며, 챔버 내부를 NF플라즈마로 세정할 경우에 발생하는 문제를 방지하기 위해, 석영튜브가 챔버벽의 적어도 일부와 더불어 서셉터를 둘러싸는 밀폐구조를 이룬다. 전극은, 고밀도 플라즈마를 생성할 수 있도록, 다양한 구조를 갖는다.</p> |
