发明名称 用于平版印刷雷射之程序监视系统
摘要 一种用于积体电路制厂监视平版印刷雷射之系统。每一制造厂之每一雷射结合有一终端伺服器。对于每一制造厂,一控制伺服器单位系经由一区域网路与每一雷射通讯。雷射资讯系由控制伺服器单位收集,及其资讯系用来提供摘要资讯,以网站格式供具有进出授权之相关团体使用。
申请公布号 TW483035 申请公布日期 2002.04.11
申请号 TW090103445 申请日期 2001.03.27
申请人 希玛股份有限公司 发明人 派希夫S 派特尔;乔瑟芬E 康威;木贾迪 坦特拉;杰佛瑞W 摩恩;杰森R 卡尔布;罗杰L 格伦;汤姆A 瓦生;克里斯多夫 G 罗湾
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种用以监视积体电路制造厂之平面印刷雷射系统,该系统包含:A)一多数雷射,每一部可组态作为积体电路平面印刷程序中之照明源,B)一终端伺服器与该多数雷射每一部结合;C)一中央制造厂伺服器单位,经由区域网路与该多数雷射每一部通讯;该中央制造厂伺服器单位系程式化以取得每一该雷射之资料,并以列式样及/或摘要式样至少储存资料一部分;D)一第二伺服器经由该第一伺服器单位与电脑之间的通讯网路提供通讯,该电脑使用人具有进出该第一伺服器单位储存资讯之授权。2.根据申请专利范围第1项之系统,其中该多数雷射系窄带激元雷射。3.根据申请专利范围第1项之系统,其中每一终端伺服器提供有一独一网际网路位址。4.根据申请专利范围第1项之系统,其中该第二伺服器系置于雷射工厂设备处。5.根据申请专利范围第1项之系统,其中该中央制造厂伺服器单位系以模组式样产生之软体程式化,该软体包含:(a)一资料取得模组(b)一语句分析器模组(c)一资料库模组及(d)一使用者介面模组。6.根据申请专利范围第5项之系统,其中该资料取得模组,包含软体元件包含:(a)雷射读取及写入(b)指令写入至雷射(c)指令写入伫列(d)读取自雷射之资料(e)主排程器(f)语句分析器介面(g)资料库写入伫列(h)系统错误记录及错误伺服器程式。7.根据申请专利范围第1项之系统,其中自该雷射取得之资料系呈现于由该中央制造厂伺服器单位所产生之网站。8.根据申请专利范围第7项之系统,其中自该雷射取得之该资料系呈现为摘要式样的图表。9.根据申请专利范围第7项之系统,其中该网站包含网页。10.根据申请专利范围第9项之系统,其中该网页包含:(a)一行政管理网页(b)有关特定雷射之摘要网页(c)维修记录网页(d)错误网页。11.根据申请专利范围第8项之系统,其中该图表包含:(a)工作箱工作寿命图表(b)LNM图表(c)稳定化模组图表(d)工作时间或停工时间图表(e)维修相关图表。12.根据申请专利范围第1项之系统,其中该通讯网路系一网际网路。13.根据申请专利范围第1项之系统,其中该通讯网路系一网内网路系统。14.根据申请专利范围第1项之系统,其中该终端伺服器系一内建网路卡。图式简单说明:第1图系本发明较佳实施例之一般规划图。第2至5图系本发明原型实施例所产生之典型网页电脑列印影印之一般外观。
地址 美国