发明名称 二次元画像检出器
摘要 本发明之二次元画像检出器具备用于将电磁波所构成之画像资讯转换成电荷之光导电膜,包含由于收集光导电膜之电荷与光导电膜连接之像素电极排列构成之像素排列层,隔着像素排列层与像素电极相对,而形成用于检测已收集之电荷之闸极线与源极线等之配线层以及位于像素排列层与配线层之间之第1及第2绝缘保护膜之动态矩阵基板(Active matrix substrate),以及隔着光导电膜配置于像素排列层相对之位置用于在像素电极之间发生电场之共同电极,共同电极系形成于排列着像素电极之区域之像素区域内。因此,可以防止伴随X射线之过多照射等高电压之施加所导致之像素区域外侧之绝缘破坏。
申请公布号 TW483163 申请公布日期 2002.04.11
申请号 TW090104848 申请日期 2001.03.02
申请人 夏普股份有限公司 发明人 寺沼修;和泉良弘
分类号 H01L27/146;H01L31/00 主分类号 H01L27/146
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种二次元画像检出器,其特征具备:用于将电磁 波所造成之画像资讯转换成电荷之转换层, 像素基板,含有用于收集该转换层之电荷且由与该 转换层相连接之像素电极排列而成之像素排列层, 隔着上述像素排列层面对上述转换层并形成用于 检测所收集之电荷之电极配线之配线层,以及位于 上述像素排列层与配线层之间之绝缘层,以及隔着 上述转换层配置于上述像素排列层相对向之位置 并使上述像素电极之间产生电场之上部电极,该上 部电极系形成于排列有上述像素电极之区域之像 素区域内。2.如申请专利范围第1项之二次元画像 检出器,其中上部电极系形成于排列于上述像素电 极极之最外周之像素之更内侧。3.如申请专利范 围第1项之二次元画像检出器,其中在上述像素区 域隔着上述转换层与上述上部电极相对向之区域 中检测上述画像资讯。4.如申请专利范围第1项之 二次元画像检出器,其中上述像素排列层包括隔着 上述转换层与上述上部电极相对向并用于检测转 换为电荷之画像资讯之画像检出区域,以及位于该 画像检出区域之外侧而不与上述上部电极相对向 之缓冲区域。5.如申请专利范围第1至4项之二次元 画像检出器,其中在对上述转换层射入上述画像资 讯之电磁波一侧之位置具备用于遮蔽上述电磁波 之遮蔽构件,俾至少覆盖上述像素区域外侧之区域 且形成着上述转换层之区域之一部分。6.如申请 专利范围第5项之二次元画像检出器,其中上述画 像资讯之电磁波为X射线,而上述遮蔽构件包含由 铅、钽、钨及钡所构成之群选出之材料。7.一种 二次元画像检出器,其特征具备: 动态矩阵基板,具有配置成矩阵状之多个像素电极 , 转换层,在该动态矩阵基板上与上述多个像素电极 电连,同时形成覆盖上述多个像素电极,并用于将 射入之电磁波之画像资讯转换成电荷,以及 上部电极,隔着该转换层设置与上述动态矩阵基板 相对向,并在与上述像素电极之间被施加电压, 上述配置有多个像素电极之像素区域包含有与位 于上述动态矩阵基板之上部电极相对向之区域,而 且比与该上部电极相对向之区域为大。8.如申请 专利范围第7项之二次元画像检出器,其中上述像 素区域包含: 画像检出区域,隔着上述转换层与上述上部电极相 对向并配置有用于检测转换为电荷之画像资讯之 多个像素电极,以及 缓冲区域,位于该画像检出区域之外侧并配置着未 与上述上部电极相对向之多个像素电极。9.如申 请专利范围第8项之二次元画像检出器,其中上述 缓冲区域围绕着上述画像检出区域。10.如申请专 利范围第8或9项之二次元画像检出器,其中配置于 上述缓冲区域之像素电极可将来自上述转换层之 电荷排出。图式简单说明: 第1图(a)及第1图(b)表示本发明之一实施形态中之 二次元画像检出器之基本构造,第1图(a)为平面图, 以及该平面图中之B-B线箭头符号剖面图,第1图(b) 为第1图(a)剖面图中以圆所围部分之扩大图。 第2图为第1图(a)及第1图(b)之二次元画像检出器中 每一像素之剖面图。 第3图(a)及第3图(b)表示本发明之一变形例中之二 次元画像检出器之基本构造,第3(a)为平面图及该 平面图中C-C线箭头符号剖面图,第3图(b)为第3图(a) 之剖面图中以圆围所围部分之扩大图。 第4图为先前之二次元画像检出器之平面图及该图 中A-A线箭头符号剖面图。 第5图为第4图之二次元画像检出器中每一像素之 剖面图。
地址 日本