发明名称 |
Integrierte Schaltung mit verbesserter Kontaktbarriere |
摘要 |
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申请公布号 |
DE69427959(T2) |
申请公布日期 |
2002.04.11 |
申请号 |
DE1994627959T |
申请日期 |
1994.12.22 |
申请人 |
STMICROELECTRONICS, INC. |
发明人 |
DE-DUL, LIAO;YIH-SHUNG, LIN |
分类号 |
H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;H01L23/485;H01L23/532;(IPC1-7):H01L21/285 |
主分类号 |
H01L21/28 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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