| 发明名称 | 清洗方法、半导体器件的制造方法及有源矩阵型显示器件的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种将加有超声波的清洗液供给被清洗物,来清洗所述被清洗物的超声波清洗方法,对所述清洗液施加所述超声波,以规定间隔反复进行施加、停止的方式进行。用该超声波清洗方法进行清洗时,可以既不降低去除附着在被清洗物表面的微粒的效率,又不损伤被清洗物。 | ||
| 申请公布号 | CN1343535A | 申请公布日期 | 2002.04.10 |
| 申请号 | CN01117261.4 | 申请日期 | 2001.04.27 |
| 申请人 | 东芝株式会社 | 发明人 | 速水直哉 |
| 分类号 | B08B3/12 | 主分类号 | B08B3/12 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 黄依文 |
| 主权项 | 1.一种将加有超声波的清洗液供给被清洗物来清洗所述被清洗物的超声波清洗方法，其特征在于，对所述清洗液施加所述超声波，是以反复进行施加、停止的方式进行。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||