发明名称 |
氮化铝、碳化硅及氮化铝∶碳化硅合金块状单晶的制备方法 |
摘要 |
采用在许多成核点沉积Al、Si、N、C的适当蒸汽物质制备了低缺陷浓度、低杂质的氮化铝、碳化硅及氮化铝:碳化硅合金块状单晶,这些成核点是择优冷却至低于晶体生长室内周围表面温度的。通过升华固态材料、汽化液态Al、Si或Al-Si、或注入源气体来提供蒸汽物质。这些许多成核点可能未引种或者采用籽晶如4H或6HSiC进行经引种的。 |
申请公布号 |
CN1344336A |
申请公布日期 |
2002.04.10 |
申请号 |
CN99811961.X |
申请日期 |
1999.10.08 |
申请人 |
克里公司 |
发明人 |
C·E·亨特 |
分类号 |
C30B29/36;C30B29/38;C30B23/00;C30B29/40 |
主分类号 |
C30B29/36 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
段承恩 |
主权项 |
1.一种制备AlNx∶SiCy块状单晶的方法,其中x+y=1,x为1→0,及y为0→1,包括步骤:在晶体生长室中提供生长块状单晶所需的Al、Si、N和C选择元素的蒸汽物质;在晶体生长室中提供许多成核点;择优冷却成核点至低于晶体生长室内周围各表面的温度;在决定始于各个成核点的AlNx∶SiCy单晶生长的条件下,沉积蒸汽物质。 |
地址 |
美国北卡罗莱纳 |