Verfahren zum Strukturieren eines Substrats

摘要

Es wird ein Verfahren zum Strukturieren eines Substrats mit Strukturen im Mikrometer- bis Nanometerbereich beschrieben, das auf die Bereitstellung von gasförmigen fluororganischen Verbindungen verzichtet. Das Verfahren erfolgt durch reaktives Ionenätzen unter Verwendung einer auf dem Substrat angeordneten Maske und eines Plasmas sowie von fluorhaltigen organischen Verbindungen, wobei die fluorhaltige(n) organische(n) Verbindung(en) als feste Polymere bereitgestellt werden. Es wird auch ein Verfahren zum Ätzen einer Beschichtung auf einem Substrat oder der Oberfläche eines Substrates beschrieben.