发明名称 Verfahren zum Herstellen eines Leiters und Verfahren zur Bildung eines Musters
摘要 Es wird ein Verfahren zum Bilden eines feinen Leiters mit einem hohen Genauigkeitsgrad angegeben. Das Verfahren zum Bilden eines Leiters umfaßt einen Prozeß zum Bilden eines ersten Films (106) auf einem Basismaterial (100), einen Prozeß zum Bilden eines zweiten Films (108) auf dem ersten Film, einen Prozeß zum Bilden eines ersten Öffnungsbereichs (110) in dem zweiten Film, so daß der zweite Film ein vorbestimmtes Muster hat, einen Prozeß zum Entfernen eines Bereichs des ersten Films, derart, daß der zweite Film als eine Haube dient, einen Prozeß zum Bilden eines Leiters (114a) auf dem Basismaterial unter Verwendung des ersten Films und des zweiten Films als Masken und einen Prozeß zum Entfernen des ersten Films und des zweiten Films.
申请公布号 DE10135047(A1) 申请公布日期 2002.04.04
申请号 DE20011035047 申请日期 2001.07.09
申请人 ADVANTEST CORP., TOKIO/TOKYO 发明人 EZURA, TOMOHIKO
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/308;H01L21/3205;H01L21/335;H01L21/338;H01L21/768;H01L29/778;H01L29/812;(IPC1-7):H01L21/768 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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