| 发明名称 |
Verfahren zur Herstellung von Chlorsilanen |
| 摘要 |
Verfahren zur Herstellung von Chlorsilanen unter Verwendung von Silicium, das homogen verteiltes Kupfersilicid enthält. Insbesondere Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan durch Umsetzung dieses Siliciums mit Wasserstoff, Siliciumtetrachlorid und gegebenenfalls Chlorwasserstoff.
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| 申请公布号 |
DE10044796(A1) |
申请公布日期 |
2002.04.04 |
| 申请号 |
DE20001044796 |
申请日期 |
2000.09.11 |
| 申请人 |
BAYER AG |
发明人 |
BULAN, ANDREAS;WEBER, REINER;MLECZKO, LESLAW |
| 分类号 |
C01B33/03;C01B33/107;C07F7/16;(IPC1-7):C01B33/107;C01B33/04 |
主分类号 |
C01B33/03 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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