发明名称 |
Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan |
摘要 |
Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan durch Umsetzung von Silicium mit Wasserstoff, Siliciumtetrachlorid und gegebenenfalls Chlorwasserstoff, unter Verwendung von Silicium, das Eisen in Form von homogen verteiltem Eisensilicid enthält.
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申请公布号 |
DE10044794(A1) |
申请公布日期 |
2002.04.04 |
申请号 |
DE20001044794 |
申请日期 |
2000.09.11 |
申请人 |
BAYER AG |
发明人 |
BULAN, ANDREAS;WEBER, RAINER;BLOCK, HANS-DIETER |
分类号 |
C01B33/03;C01B33/107;(IPC1-7):C01B33/107;C01B33/04 |
主分类号 |
C01B33/03 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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