| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein beschichtetes Implantat, bei dem die Beschichtung mindestens aus einem Edelmetall und einem Metall, welches mindestens ein radioaktives Isotop enthält, besteht. DOLLAR A Aufgabe der Erfindung ist es, ein beschichtetes Implantat mit geringer Auswaschrate bereitzustellen. DOLLAR A Gelöst wird diese Aufgabe dadurch, dass die Beschichtung aus mindestens zwei Schichten besteht, einer Schicht aus Edelmetall und einer Schicht aus dem Metall, welches mindestens ein radioaktives Isotop enthält, wobei die Schichten elektrochemisch auf dem Implantat aufgebracht und anschließend getempert wurden.
|
