| 发明名称 | 结构自对准制作微机械热堆红外探测器的红外吸收层方法 | ||
| 摘要 | 一种结构自对准制作微机械热堆红外探测器的红外吸收层方法,属于微机械领域,其特点是从单晶硅片的正面和反面同时进行腐蚀,在热堆背面得到一个与红外吸收区大小相仿的窗口,通过此窗口的对准作用,在氮气氛下蒸发黑体,使黑体沉积在热堆的背后。所以本发明的最为关键的工艺是利用硅各向异性腐蚀生成的结构,自对准沉积黑体制作红外吸收层。这样既可一次成型,省去了光刻等相关工艺,降低了生产成本;又可精确定位生成红外吸收层,提高器件的成品率。 | ||
| 申请公布号 | CN1342887A | 申请公布日期 | 2002.04.03 |
| 申请号 | CN01131975.5 | 申请日期 | 2001.10.22 |
| 申请人 | 中国科学院上海冶金研究所 | 发明人 | 徐峥谊;熊斌;王翊;王跃林 |
| 分类号 | G01J1/00;G01J1/42;H01L31/09 | 主分类号 | G01J1/00 |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 潘振甦 |
| 主权项 | 1.一种结构自对准制作微机械热堆红外探测器的红外吸收层方法，其特征在于从单晶硅片的正面和反面同时进行腐蚀，在热堆背面得到一个与红外吸收区大小相仿的窗口，通过此窗口的对准作用，在氮气氛下蒸发黑体，使黑体沉积在热堆的背后。 | ||
| 地址 | 200050上海市长宁区长宁路865号 | ||