| 发明名称 |
Method of implanting low doses of ions into a substrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0890657(B1) |
申请公布日期 |
2002.04.03 |
| 申请号 |
EP19980305259 |
申请日期 |
1998.07.02 |
| 申请人 |
AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. |
发明人 |
GWINN, MATTHEW CHARLES |
| 分类号 |
C23C14/48;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):C23C14/48;H01J37/30 |
主分类号 |
C23C14/48 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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