| 发明名称 | 含有二苯并二氧化噻吩的共轭聚合物及制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了式(1)所示的一类新型含有二苯并二氧化噻吩共轭聚合物及其制备方法。该共轭聚合物以含有二苯并二氧化噻吩的二卤苄或芳香二卤苄单体和芳香二醛或含有二苯并二氧化噻吩的二醛单体为原料,先将含有二苯并二氧化噻吩的二卤苄或芳香二卤苄与三苯基磷反应生成双季膦盐单体,再与芳香二醛或含有二苯并二氧化噻吩的二醛单体反应聚合而成。该聚合物是一种良好的导电和发光材料,在导电,平板显示,聚合物激光以及发光二极管等领域有着广泛的应用前景。式(1)其中,聚合度n=4－50;Ar为式(2)其中,R,R’是氢或具有1－16碳原子的烷基或烷氧基;R”是具有1－16碳原子的烷基。 | ||
| 申请公布号 | CN1342720A | 申请公布日期 | 2002.04.03 |
| 申请号 | CN01131916.X | 申请日期 | 2001.10.16 |
| 申请人 | 上海交通大学 | 发明人 | 王宝湖;印杰 |
| 分类号 | C08F138/00 | 主分类号 | C08F138/00 |
| 代理机构 | 上海交达专利事务所 | 代理人 | 罗荫培 |
| 主权项 | 1.含有二苯并二氧化噻吩的共轭聚合物，其特征在于聚合物的重复结构单元为：其中，聚合度n＝4-50；Ar为其中，R，R’是氢或具有1-16碳原子的烷基或烷氧基；R”是具有1-16碳原子的烷基 | ||
| 地址 | 200030上海市华山路1954号 | ||