发明名称 INTEGRATED THIN FILM CAPACITOR/INDUCTOR/INTERCONNECT SYSTEM AND METHOD
摘要 <p>L'invention concerne un système et un procédé de fabrication de condensateurs (1011), inducteurs (1012) et d'interconnexions multicouches (1013) à haute fiabilité (y compris des résistances (1014)) sur diverses surfaces (0501) de substrat hybride en couches minces. Le procédé décrit utilise tout d'abord une couche de métal mince (0502) déposée et tracée en un motif sur le substrat (0501). Cette couche mince (0502) à motif est utilisée pour fournir à la fois des électrodes inférieures pour des structures de condensateur (0603) et des interconnexions (0604) entre des constituants d'électrode supérieure. Ensuite, une couche diélectrique (0705) est déposée sur la couche mince (0502) à motif et la couche diélectrique (0705) est configurée pour ouvrir des trous de contact (0806) dans la couche mince à motif. Les couches d'électrodre supérieure (0907, 0908, 1009, 1010) sont ensuite déposées et tracées en un motif au-dessus de la couche diélectrique (0705).</p>
申请公布号 WO2002025709(A2) 申请公布日期 2002.03.28
申请号 US2001029575 申请日期 2001.09.21
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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